光学精密工程
光學精密工程
광학정밀공정
OPTICS AND PRECISION ENGINEERING
2009年
8期
1865-1869
,共5页
崔岩%石二磊%夏劲松%王立鼎
崔巖%石二磊%夏勁鬆%王立鼎
최암%석이뢰%하경송%왕립정
硅尖%各向异性%氧化削尖%掩模
硅尖%各嚮異性%氧化削尖%掩模
규첨%각향이성%양화삭첨%엄모
为制备高纵横比的纳米硅尖,研究了掩模的偏转方向对硅尖形状的影响.设计了硅尖制备的工艺流程,采用KOH溶液湿法各向异性腐蚀(100)单晶硅的方法制备硅尖,根据实验结果和{411}晶面模型,分析了硅尖侧壁的组成晶面,讨论了掩模偏转方向对硅尖形状的影响,得到了制备高纵横比纳米硅尖的工艺参数.实验结果表明:当腐蚀溶液浓度和温度一定时,正方形掩模的方向并不影响快腐蚀晶面的类型,利用正方形掩模的偏转,可以制备出八面体和四面体的硅尖.当正方形掩模边缘沿〈110〉晶向时,在78 ℃、浓度为40%的KOH溶液中腐蚀硅尖,经980 ℃干氧氧化3 h进行削尖,可制备出纵横比＞2的八面体纳米硅尖阵列,硅尖侧壁由与(100)面夹角为76.37°的{411}晶面组成.
為製備高縱橫比的納米硅尖,研究瞭掩模的偏轉方嚮對硅尖形狀的影響.設計瞭硅尖製備的工藝流程,採用KOH溶液濕法各嚮異性腐蝕(100)單晶硅的方法製備硅尖,根據實驗結果和{411}晶麵模型,分析瞭硅尖側壁的組成晶麵,討論瞭掩模偏轉方嚮對硅尖形狀的影響,得到瞭製備高縱橫比納米硅尖的工藝參數.實驗結果錶明:噹腐蝕溶液濃度和溫度一定時,正方形掩模的方嚮併不影響快腐蝕晶麵的類型,利用正方形掩模的偏轉,可以製備齣八麵體和四麵體的硅尖.噹正方形掩模邊緣沿〈110〉晶嚮時,在78 ℃、濃度為40%的KOH溶液中腐蝕硅尖,經980 ℃榦氧氧化3 h進行削尖,可製備齣縱橫比＞2的八麵體納米硅尖陣列,硅尖側壁由與(100)麵夾角為76.37°的{411}晶麵組成.
위제비고종횡비적납미규첨,연구료엄모적편전방향대규첨형상적영향.설계료규첨제비적공예류정,채용KOH용액습법각향이성부식(100)단정규적방법제비규첨,근거실험결과화{411}정면모형,분석료규첨측벽적조성정면,토론료엄모편전방향대규첨형상적영향,득도료제비고종횡비납미규첨적공예삼수.실험결과표명:당부식용액농도화온도일정시,정방형엄모적방향병불영향쾌부식정면적류형,이용정방형엄모적편전,가이제비출팔면체화사면체적규첨.당정방형엄모변연연〈110〉정향시,재78 ℃、농도위40%적KOH용액중부식규첨,경980 ℃간양양화3 h진행삭첨,가제비출종횡비＞2적팔면체납미규첨진렬,규첨측벽유여(100)면협각위76.37°적{411}정면조성.
