科技创新导报
科技創新導報
과기창신도보
SCIENCE AND TECHNOLOGY CONSULTING HERALD
2009年
3期
4-5
,共2页
吴克跃%宋军%吴兴举%周军%杨少峰%张波
吳剋躍%宋軍%吳興舉%週軍%楊少峰%張波
오극약%송군%오흥거%주군%양소봉%장파
硅锗合金%低维结构%界面态%光致发光
硅鍺閤金%低維結構%界麵態%光緻髮光
규타합금%저유결구%계면태%광치발광
采用高温氧化(800℃)和激光辐照低温氧化(300℃)的方法以及用激光直接辐照方法,在硅锗合金薄膜上生成锗纳晶.这两种方法所生成的锗纳晶所对应的光致发光(PL)在可见光范围.其中在606 nm处有很尖锐的发光峰.经比较发现:低温氧化的样品所对应的PL光谱比高温氧化的PL光谱有明显的蓝移;在606 nm处的PL光谱峰位没有变化;高温氧化的样品在606nm处PL光谱的强度明显增强.提出量子受限和锗纳晶与氧化硅的界面态综合发光模型来解释其PL光谱的产生及变化.
採用高溫氧化(800℃)和激光輻照低溫氧化(300℃)的方法以及用激光直接輻照方法,在硅鍺閤金薄膜上生成鍺納晶.這兩種方法所生成的鍺納晶所對應的光緻髮光(PL)在可見光範圍.其中在606 nm處有很尖銳的髮光峰.經比較髮現:低溫氧化的樣品所對應的PL光譜比高溫氧化的PL光譜有明顯的藍移;在606 nm處的PL光譜峰位沒有變化;高溫氧化的樣品在606nm處PL光譜的彊度明顯增彊.提齣量子受限和鍺納晶與氧化硅的界麵態綜閤髮光模型來解釋其PL光譜的產生及變化.
채용고온양화(800℃)화격광복조저온양화(300℃)적방법이급용격광직접복조방법,재규타합금박막상생성타납정.저량충방법소생성적타납정소대응적광치발광(PL)재가견광범위.기중재606 nm처유흔첨예적발광봉.경비교발현:저온양화적양품소대응적PL광보비고온양화적PL광보유명현적람이;재606 nm처적PL광보봉위몰유변화;고온양화적양품재606nm처PL광보적강도명현증강.제출양자수한화타납정여양화규적계면태종합발광모형래해석기PL광보적산생급변화.
