微处理机
微處理機
미처리궤
MICROPROCESSORS
2008年
4期
44-45
,共2页
薄膜电阻%高精度%高稳定
薄膜電阻%高精度%高穩定
박막전조%고정도%고은정
首先对有关薄膜电阻的理论作了一定的探讨,得出薄膜电阻随电阻率的增加,其温度系数将会减小;在一定厚度范围内薄膜厚度减小,其温度系数减小;适当的成膜工艺能控制和改善电阻的温度系数的结论.给出了制备薄膜电阻的试验方法(调整薄膜的淀积条件以获得高质量的薄膜,再通过热处理激活)及试验结果,对影响电阻特性及稳定性的一些条件进行了讨论,并探讨了高稳定薄膜电阻技术在集成电路中的应用前景.该工艺现已在双极和MOS电路中得到了很好的应用,拥有更快、更好的发展前景.
首先對有關薄膜電阻的理論作瞭一定的探討,得齣薄膜電阻隨電阻率的增加,其溫度繫數將會減小;在一定厚度範圍內薄膜厚度減小,其溫度繫數減小;適噹的成膜工藝能控製和改善電阻的溫度繫數的結論.給齣瞭製備薄膜電阻的試驗方法(調整薄膜的澱積條件以穫得高質量的薄膜,再通過熱處理激活)及試驗結果,對影響電阻特性及穩定性的一些條件進行瞭討論,併探討瞭高穩定薄膜電阻技術在集成電路中的應用前景.該工藝現已在雙極和MOS電路中得到瞭很好的應用,擁有更快、更好的髮展前景.
수선대유관박막전조적이론작료일정적탐토,득출박막전조수전조솔적증가,기온도계수장회감소;재일정후도범위내박막후도감소,기온도계수감소;괄당적성막공예능공제화개선전조적온도계수적결론.급출료제비박막전조적시험방법(조정박막적정적조건이획득고질량적박막,재통과열처리격활)급시험결과,대영향전조특성급은정성적일사조건진행료토론,병탐토료고은정박막전조기술재집성전로중적응용전경.해공예현이재쌍겁화MOS전로중득도료흔호적응용,옹유경쾌、경호적발전전경.
