人工晶体学报
人工晶體學報
인공정체학보
2008年
1期
65-69
,共5页
李盼来%郭庆林%邓泽超%王志军%张金平%梁宝来
李盼來%郭慶林%鄧澤超%王誌軍%張金平%樑寶來
리반래%곽경림%산택초%왕지군%장금평%량보래
Ce%KNSBN晶体%两波耦合%调制光%入射光参量%运动光栅
Ce%KNSBN晶體%兩波耦閤%調製光%入射光參量%運動光柵
Ce%KNSBN정체%량파우합%조제광%입사광삼량%운동광책
采用非同时读出条件下晶体两波耦合实验装置,在入射光调制下,研究了调制频率对Ce:KNSBN晶体两波耦合有效增益(G)的影响,结果显示G随调制频率的增大先增大后减小,但入射光波长不同时,G最大值对应的调制频率不同,入射光波长为632.8nm时,G最大值为20.2,对应的调制频率为100Hz;入射光波长为532nm时,G最大值为15.1,对应的调制频率为175Hz.同时研究了入射光参量对增益改善(Gm/Gf)及最佳调制频率的影响,结果显示不同入射光参量下增益改善及最佳调制频率不同,入射光波长为632.8nm时,增益改善最大为1.92,对应的最佳调制频率为100Hz;入射光波长为532nm时,增益改善最大为1.50,对应的最佳调制频率为150Hz.采用运动光栅理论对实验结果进行了解释.
採用非同時讀齣條件下晶體兩波耦閤實驗裝置,在入射光調製下,研究瞭調製頻率對Ce:KNSBN晶體兩波耦閤有效增益(G)的影響,結果顯示G隨調製頻率的增大先增大後減小,但入射光波長不同時,G最大值對應的調製頻率不同,入射光波長為632.8nm時,G最大值為20.2,對應的調製頻率為100Hz;入射光波長為532nm時,G最大值為15.1,對應的調製頻率為175Hz.同時研究瞭入射光參量對增益改善(Gm/Gf)及最佳調製頻率的影響,結果顯示不同入射光參量下增益改善及最佳調製頻率不同,入射光波長為632.8nm時,增益改善最大為1.92,對應的最佳調製頻率為100Hz;入射光波長為532nm時,增益改善最大為1.50,對應的最佳調製頻率為150Hz.採用運動光柵理論對實驗結果進行瞭解釋.
채용비동시독출조건하정체량파우합실험장치,재입사광조제하,연구료조제빈솔대Ce:KNSBN정체량파우합유효증익(G)적영향,결과현시G수조제빈솔적증대선증대후감소,단입사광파장불동시,G최대치대응적조제빈솔불동,입사광파장위632.8nm시,G최대치위20.2,대응적조제빈솔위100Hz;입사광파장위532nm시,G최대치위15.1,대응적조제빈솔위175Hz.동시연구료입사광삼량대증익개선(Gm/Gf)급최가조제빈솔적영향,결과현시불동입사광삼량하증익개선급최가조제빈솔불동,입사광파장위632.8nm시,증익개선최대위1.92,대응적최가조제빈솔위100Hz;입사광파장위532nm시,증익개선최대위1.50,대응적최가조제빈솔위150Hz.채용운동광책이론대실험결과진행료해석.
