现代显示
現代顯示
현대현시
ADVANCED DISPLAY
2008年
3期
48-50
,共3页
郑载润%陈正伟%蒋冬华%李正勳%李斗熙
鄭載潤%陳正偉%蔣鼕華%李正勳%李鬥熙
정재윤%진정위%장동화%리정훈%리두희
等离子刻蚀%刻蚀速率%选择比
等離子刻蝕%刻蝕速率%選擇比
등리자각식%각식속솔%선택비
采用统计实验方法研究了利用SF6+Cl2混合气体产生的等离子体进行Si和SiNx的反应离子刻蚀技术.在相同的输出功率和压力的条件下,将si和SiNx的刻蚀速率和选择比表示为SF6百分比含量的函数.文中讨论了SF6含量的变化对刻蚀速率、选择比和坡度角的影响及刻蚀机理,证实了即使是SF6含量的少量改变也会对si和SiNx的刻蚀速率、选择比和坡度角有重要的影响.并通过光谱分析来深层次地讨刻蚀速率受SF6含量影响的原因.
採用統計實驗方法研究瞭利用SF6+Cl2混閤氣體產生的等離子體進行Si和SiNx的反應離子刻蝕技術.在相同的輸齣功率和壓力的條件下,將si和SiNx的刻蝕速率和選擇比錶示為SF6百分比含量的函數.文中討論瞭SF6含量的變化對刻蝕速率、選擇比和坡度角的影響及刻蝕機理,證實瞭即使是SF6含量的少量改變也會對si和SiNx的刻蝕速率、選擇比和坡度角有重要的影響.併通過光譜分析來深層次地討刻蝕速率受SF6含量影響的原因.
채용통계실험방법연구료이용SF6+Cl2혼합기체산생적등리자체진행Si화SiNx적반응리자각식기술.재상동적수출공솔화압력적조건하,장si화SiNx적각식속솔화선택비표시위SF6백분비함량적함수.문중토론료SF6함량적변화대각식속솔、선택비화파도각적영향급각식궤리,증실료즉사시SF6함량적소량개변야회대si화SiNx적각식속솔、선택비화파도각유중요적영향.병통과광보분석래심층차지토각식속솔수SF6함량영향적원인.
