光学仪器
光學儀器
광학의기
OPTICAL INSTRUMENTS
2007年
6期
74-80
,共7页
冀翔%杨国光%侯西云%刘晓旻%陈滟%田丰
冀翔%楊國光%侯西雲%劉曉旻%陳滟%田豐
기상%양국광%후서운%류효민%진염%전봉
光刻%芽孢%反应离子束刻蚀%温度效应%二次效应
光刻%芽孢%反應離子束刻蝕%溫度效應%二次效應
광각%아포%반응리자속각식%온도효응%이차효응
为了刻蚀出低损耗波导沟道,对光刻和反应离子束蚀刻(RIE)中影响展宽的工艺条件进行理论分析和实验实践,提出采用多次旋涂、消除芽孢、低温后烘和刻蚀、光学稳定等措施减小展宽,并对不能完全消除的展宽分析给出原因.实验结果表明展宽得到有效的改善.
為瞭刻蝕齣低損耗波導溝道,對光刻和反應離子束蝕刻(RIE)中影響展寬的工藝條件進行理論分析和實驗實踐,提齣採用多次鏇塗、消除芽孢、低溫後烘和刻蝕、光學穩定等措施減小展寬,併對不能完全消除的展寬分析給齣原因.實驗結果錶明展寬得到有效的改善.
위료각식출저손모파도구도,대광각화반응리자속식각(RIE)중영향전관적공예조건진행이론분석화실험실천,제출채용다차선도、소제아포、저온후홍화각식、광학은정등조시감소전관,병대불능완전소제적전관분석급출원인.실험결과표명전관득도유효적개선.
