真空与低温
真空與低溫
진공여저온
VACUUM AND CRYOGENICS
2005年
3期
159-161,186
,共4页
包良满%曹博%李公平%何山虎
包良滿%曹博%李公平%何山虎
포량만%조박%리공평%하산호
薄膜%AFM%形貌%Volmer-Weber模式
薄膜%AFM%形貌%Volmer-Weber模式
박막%AFM%형모%Volmer-Weber모식
室温下,利用磁控溅射在P型Si(111)衬底上沉积了铜(Cu)膜.用原子力显微镜(AFM)对不同沉积时间制备的Cu膜形貌进行了观测,研究了磁控溅射沉积Cu膜时膜在硅衬底上成核和生长方式.Cu膜在Si衬底生长时,Cu的临界核以Volmer-Weber模式生长.溅射时,核长大增高为岛状,岛与岛相互连接构成岛的通道,最后形成连续膜.随着沉积的进行,Cu膜表面粗糙度由于晶粒凝聚和合并而增大.当形成连续致密的、具有一定晶向的Cu膜时,粗糙度反而减小.
室溫下,利用磁控濺射在P型Si(111)襯底上沉積瞭銅(Cu)膜.用原子力顯微鏡(AFM)對不同沉積時間製備的Cu膜形貌進行瞭觀測,研究瞭磁控濺射沉積Cu膜時膜在硅襯底上成覈和生長方式.Cu膜在Si襯底生長時,Cu的臨界覈以Volmer-Weber模式生長.濺射時,覈長大增高為島狀,島與島相互連接構成島的通道,最後形成連續膜.隨著沉積的進行,Cu膜錶麵粗糙度由于晶粒凝聚和閤併而增大.噹形成連續緻密的、具有一定晶嚮的Cu膜時,粗糙度反而減小.
실온하,이용자공천사재P형Si(111)츤저상침적료동(Cu)막.용원자력현미경(AFM)대불동침적시간제비적Cu막형모진행료관측,연구료자공천사침적Cu막시막재규츤저상성핵화생장방식.Cu막재Si츤저생장시,Cu적림계핵이Volmer-Weber모식생장.천사시,핵장대증고위도상,도여도상호련접구성도적통도,최후형성련속막.수착침적적진행,Cu막표면조조도유우정립응취화합병이증대.당형성련속치밀적、구유일정정향적Cu막시,조조도반이감소.
