化学放大光刻胶高分子材料研究进展
화학방대광각효고분자재료연구진전
Progress in the Research of Chemical Amplified Photoresist
  • 万方数据
    高分子通报 고분자통보
    POLYMER BULLETIN
    2005年 2期 70-80 ,共11页

    王春伟%李弘%朱晓夏

    왕춘위%리홍%주효하

    光刻胶%化学放大%微版印刷术 光刻膠%化學放大%微版印刷術
    광각효%화학방대%미판인쇄술
    综合论述了化学放大光刻胶类高分子材料,并着重介绍193 nm光刻胶材料研究的最近进展.
    종합논술료화학방대광각효류고분자재료,병착중개소193 nm광각효재료연구적최근진전.
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