MOCVD材料生长的在位反射谱监测与表面不均衡平整度的模拟计算
MOCVD재료생장적재위반사보감측여표면불균형평정도적모의계산
In-situ monitoring of material growth by MOCVD using reflective spectra and simulative calculation of surface roughness
  • 万方数据
    闽西职业大学学报 민서직업대학학보
    JOURNAL OF MINXI VOCATIONAL COLLEGE
    2004年 2期 118-120 ,共3页

    潘群峰

    반군봉

    MOVCD%反射谱%平整度%反射率 MOVCD%反射譜%平整度%反射率
    MOVCD%반사보%평정도%반사솔
    介绍了MOCVD在位反射谱监测的原理,利用高斯分布模拟GaN材料生长过程中表面不均衡平整度,计算其对反射谱的影响.
    개소료MOCVD재위반사보감측적원리,이용고사분포모의GaN재료생장과정중표면불균형평정도,계산기대반사보적영향.
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