CAJ | 학술논문

采用直流磁控溅射和在纯氩气中后热处理的方法,在LaAlO3(001)衬底上生长出厚度小于100nm的Tl2Ba2CaCu2Ox(Tl-2212)超导薄膜.在77K和零磁场下,100nm厚的薄膜具有105.3K的超导转变温度和2.33×106A/cm2的临界电流密度.这些值与较厚的Tl-2212薄膜的最好值相符.30nm厚的薄膜仍具有大于100K的转变温度,并具有光滑致密的表面形貌和外延生长的晶体结构.20nm厚的薄膜仍显示出正常态的金属行为和充分的超导转变.当厚度小于20nm时,薄膜的表面形貌和超导电性明显变坏,6nm厚的薄膜在15K低温下,未发现超导转变.从这个意义上看,20nm为我们所研究的Tl-2212薄膜的临界厚度.
채용직류자공천사화재순아기중후열처리적방법,재LaAlO3(001)츤저상생장출후도소우100nm적Tl2Ba2CaCu2Ox(Tl-2212)초도박막.재77K화령자장하,100nm후적박막구유105.3K적초도전변온도화2.33×106A/cm2적림계전류밀도.저사치여교후적Tl-2212박막적최호치상부.30nm후적박막잉구유대우100K적전변온도,병구유광활치밀적표면형모화외연생장적정체결구.20nm후적박막잉현시출정상태적금속행위화충분적초도전변.당후도소우20nm시,박막적표면형모화초도전성명현변배,6nm후적박막재15K저온하,미발현초도전변.종저개의의상간,20nm위아문소연구적Tl-2212박막적림계후도.