源气体对沉积的a-C∶F∶H薄膜结构的影响
원기체대침적적a-C∶F∶H박막결구적영향
The influence of different precursor gases on the as-deposited a-C∶F∶H films
  • 万方数据
    物理学报 물이학보

    2002年 8期 1865-1869 ,共5页

    辛煜%宁兆元%程珊华%陆新华%江美福%许圣华%叶超%黄松%杜伟

    신욱%저조원%정산화%륙신화%강미복%허골화%협초%황송%두위

    氟化非晶碳膜%电子回旋共振化学气相沉积%红外吸收光谱 氟化非晶碳膜%電子迴鏇共振化學氣相沉積%紅外吸收光譜
    불화비정탄막%전자회선공진화학기상침적%홍외흡수광보
    采用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(MWP ECR CVD)方法,使用不同的源气体(CHF3/CH4, CHF3/C2H2, CHF3/C6H6)体系制备了a-C∶F∶H薄膜.由于CH4 ,C2H2 ,C6H6气体在等离子体中的分解反应不同导致了薄膜的沉积速率和结构上的差异.红外吸收谱的结果表明,用C6H6/CHF3作为源气体沉积的薄膜中几乎不含H, 而用C2H2/CHF3所沉积的薄膜中的含氟量最高, 其相应的C-F 振动峰位向高频方向偏移.薄膜的真空退火结果表明,a-C∶F∶H薄膜的热稳定性除了取决于薄膜的CC键浓度外,还与CC键和其他键结构的关联有关,此外,源气体对薄膜的F/C比和相对介电常量也有重要的影响.
    채용미파전자회선공진등리자체화학기상침적(MWP ECR CVD)방법,사용불동적원기체(CHF3/CH4, CHF3/C2H2, CHF3/C6H6)체계제비료a-C∶F∶H박막.유우CH4 ,C2H2 ,C6H6기체재등리자체중적분해반응불동도치료박막적침적속솔화결구상적차이.홍외흡수보적결과표명,용C6H6/CHF3작위원기체침적적박막중궤호불함H, 이용C2H2/CHF3소침적적박막중적함불량최고, 기상응적C-F 진동봉위향고빈방향편이.박막적진공퇴화결과표명,a-C∶F∶H박막적열은정성제료취결우박막적CC건농도외,환여CC건화기타건결구적관련유관,차외,원기체대박막적F/C비화상대개전상량야유중요적영향.
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