物理化学学报
物理化學學報
물이화학학보
ACTA PHYSICO-CHIMICA SINICA
2001年
10期
931-935
,共5页
吴瑞阁%欧阳贱华%赵新生%黄小华%黄惠忠%吴念祖
吳瑞閣%歐暘賤華%趙新生%黃小華%黃惠忠%吳唸祖
오서각%구양천화%조신생%황소화%황혜충%오념조
单层膜%分子构筑%光刻%图形%硅表面
單層膜%分子構築%光刻%圖形%硅錶麵
단층막%분자구축%광각%도형%규표면
为了在硅基底上得到不同化学基团修饰的图形,在氢终止硅(111)表面运用光刻技术和光化学反应结合来控制表面成膜反应的位置,并用AFM、XPS、接触角测定等验证了这种方法的可行性.
為瞭在硅基底上得到不同化學基糰脩飾的圖形,在氫終止硅(111)錶麵運用光刻技術和光化學反應結閤來控製錶麵成膜反應的位置,併用AFM、XPS、接觸角測定等驗證瞭這種方法的可行性.
위료재규기저상득도불동화학기단수식적도형,재경종지규(111)표면운용광각기술화광화학반응결합래공제표면성막반응적위치,병용AFM、XPS、접촉각측정등험증료저충방법적가행성.
