功能材料
功能材料
공능재료
JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS
2004年
z1期
2792-2794,1799
,共4页
化学气相沉积%体材料%稳定性%均匀性%流型
化學氣相沉積%體材料%穩定性%均勻性%流型
화학기상침적%체재료%은정성%균균성%류형
化学气相沉积(CVD)法可制备高纯度、近似元件形状、大面积的块体材料,与制备薄膜的CVD过程相比,该过程存在长时间沉积稳定性、厚度均匀性及光学质量均匀性等问题.本文采用简化装置对CVD工艺过程进行物理模拟,探讨不同工艺参数下沉积室内部气体流型的变化,分析流型对沉积过程的影响.
化學氣相沉積(CVD)法可製備高純度、近似元件形狀、大麵積的塊體材料,與製備薄膜的CVD過程相比,該過程存在長時間沉積穩定性、厚度均勻性及光學質量均勻性等問題.本文採用簡化裝置對CVD工藝過程進行物理模擬,探討不同工藝參數下沉積室內部氣體流型的變化,分析流型對沉積過程的影響.
화학기상침적(CVD)법가제비고순도、근사원건형상、대면적적괴체재료,여제비박막적CVD과정상비,해과정존재장시간침적은정성、후도균균성급광학질량균균성등문제.본문채용간화장치대CVD공예과정진행물리모의,탐토불동공예삼수하침적실내부기체류형적변화,분석류형대침적과정적영향.
