采用DC Arc Plasma Jet CVD方法沉积微/纳米复合自支撑金刚石膜
채용DC Arc Plasma Jet CVD방법침적미/납미복합자지탱금강석막
Micro/Nanocrystalline Composite Free-standing Diamond Films Deposited Using DC Arc Plasma Jet CVD
  • 万方数据
    人工晶体学报 인공정체학보

    2006年 6期 1200-1202,1208 ,共4页

    戴风伟%陈广超%兰昊%J. Askari%宋建华%李成明%佟玉梅%李彬%黑立富%吕反修

    대풍위%진엄초%란호%J. Askari%송건화%리성명%동옥매%리빈%흑립부%려반수

    直流电弧等离子体喷射化学气相沉积%微/纳米复合自支撑金刚石膜%二次形核%拉曼光谱 直流電弧等離子體噴射化學氣相沉積%微/納米複閤自支撐金剛石膜%二次形覈%拉曼光譜
    직류전호등리자체분사화학기상침적%미/납미복합자지탱금강석막%이차형핵%랍만광보
    在30kW级直流电弧等离子体喷射化学气相沉积(DC Arc Plasma Jet CVD)设备上,采用Ar-H2-CH4混合气体,通过调节甲烷浓度以及控制其他沉积参数,在Mo衬底上沉积出微/纳米复合自支撑金刚石膜.实验表明,当微米金刚石膜层沉积结束后,在随后的沉积中,随着甲烷浓度的增加,金刚石膜表面的晶粒大小是逐渐减小的.当甲烷浓度达到20%以上时,金刚石膜生长面晶粒呈现菜花状的小晶团,膜体侧面已经没有了粗大的柱状晶,而是呈现出光滑的断口,对该层进行拉曼谱分析显示,位于1145cm-1附近有一定强度的散射峰出现.这说明所沉积的晶粒全部变为纳米级尺寸.
    재30kW급직류전호등리자체분사화학기상침적(DC Arc Plasma Jet CVD)설비상,채용Ar-H2-CH4혼합기체,통과조절갑완농도이급공제기타침적삼수,재Mo츤저상침적출미/납미복합자지탱금강석막.실험표명,당미미금강석막층침적결속후,재수후적침적중,수착갑완농도적증가,금강석막표면적정립대소시축점감소적.당갑완농도체도20%이상시,금강석막생장면정립정현채화상적소정단,막체측면이경몰유료조대적주상정,이시정현출광활적단구,대해층진행랍만보분석현시,위우1145cm-1부근유일정강도적산사봉출현.저설명소침적적정립전부변위납미급척촌.
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