磁控溅射制备横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜
자공천사제비횡향제도분포적Mo/Si주기다층막
Fabrication of laterally graded periodic Mo/Si multilayer using magnetron sputtering technology
  • 万方数据
    强激光与粒子束 강격광여입자속
    HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
    2011年 9期 2419-2422 ,共4页

    涂昱淳%宋竹青%黄秋实%朱京涛%徐敬%王占山%李乙洲%刘佳琪%张力

    도욱순%송죽청%황추실%주경도%서경%왕점산%리을주%류가기%장력

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    采用磁控溅射方法在Si基板上镀制了横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜.以X射线掠入射反射测量了横向梯度多层膜的膜系结构,在基板65 mm长度范围内,多层膜周期从8.21 nm线性减小到6.57nm,周期梯度为0.03 nm/mm.国家同步辐射实验室反射率计的反射率测试结果表明:该横向梯度分布周期多层膜上不同位置,能反射在13.3～15.9 nm波段范围内不同波长的极紫外光,反射率为60％～65％.
    채용자공천사방법재Si기판상도제료횡향제도분포적Mo/Si주기다층막.이X사선략입사반사측량료횡향제도다층막적막계결구,재기판65 mm장도범위내,다층막주기종8.21 nm선성감소도6.57nm,주기제도위0.03 nm/mm.국가동보복사실험실반사솔계적반사솔측시결과표명:해횡향제도분포주기다층막상불동위치,능반사재13.3～15.9 nm파단범위내불동파장적겁자외광,반사솔위60％～65％.
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