用射频磁控溅射法在c-BN晶体基底上生长c-BN薄膜
용사빈자공천사법재c-BN정체기저상생장c-BN박막
Growth of Cubic Boron Nitride Thin Film on c-BN Crystal Substrate by RF Magnetron Sputtering
  • 万方数据
    人工晶体学报 인공정체학보

    2006年 5期 953-957 ,共5页

    杨大鹏%赵永年%李英爱%苏作鹏%杜勇慧%吉晓瑞%杨旭昕%宫希亮%张铁臣

    양대붕%조영년%리영애%소작붕%두용혜%길효서%양욱흔%궁희량%장철신

    高结晶度%生长速率%生长模式 高結晶度%生長速率%生長模式
    고결정도%생장속솔%생장모식
    本文用射频磁控溅射方法在片状c-BN晶体基底上生长了c-BN薄膜,显微拉曼光谱(μ-RS)和扫描电子显微镜(SEM)测试结果表明:沉积的薄膜是大约10μm厚、高结晶性、电子透明的高纯c-BN薄膜.岛状和层状生长模式在试验中清晰的展示出来.同时在生长的c-BN薄膜内部和被遮盖的基底部分上发现了籽晶.
    본문용사빈자공천사방법재편상c-BN정체기저상생장료c-BN박막,현미랍만광보(μ-RS)화소묘전자현미경(SEM)측시결과표명:침적적박막시대약10μm후、고결정성、전자투명적고순c-BN박막.도상화층상생장모식재시험중청석적전시출래.동시재생장적c-BN박막내부화피차개적기저부분상발현료자정.
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