功能材料与器件学报
功能材料與器件學報
공능재료여기건학보
JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS AND DEVICES
2007年
6期
512-516
,共5页
氧化钽薄膜%动态离子束混合%XPS%AES
氧化鐽薄膜%動態離子束混閤%XPS%AES
양화단박막%동태리자속혼합%XPS%AES
用动态离子束混合技术在铁基材料表面上制备氧化钽薄膜.用Ar+束溅射沉积薄膜的同时,分别用100 keV,2×1017/cm2的O+离子或100 keV,8×1016/cm2的Ar+进行辐照.对两种工艺下生成的氧化钽薄膜进行了XPS、AES及RBS分析研究,结果发现,Ar+辐照下制备的氧化物薄膜主要由符合化学剂量比的Ta2O5化合物组成,引入的碳污染少.O+辐照下制备的薄膜生成了低价的氧化钽,引入了大量的碳污染.
用動態離子束混閤技術在鐵基材料錶麵上製備氧化鐽薄膜.用Ar+束濺射沉積薄膜的同時,分彆用100 keV,2×1017/cm2的O+離子或100 keV,8×1016/cm2的Ar+進行輻照.對兩種工藝下生成的氧化鐽薄膜進行瞭XPS、AES及RBS分析研究,結果髮現,Ar+輻照下製備的氧化物薄膜主要由符閤化學劑量比的Ta2O5化閤物組成,引入的碳汙染少.O+輻照下製備的薄膜生成瞭低價的氧化鐽,引入瞭大量的碳汙染.
용동태리자속혼합기술재철기재료표면상제비양화단박막.용Ar+속천사침적박막적동시,분별용100 keV,2×1017/cm2적O+리자혹100 keV,8×1016/cm2적Ar+진행복조.대량충공예하생성적양화단박막진행료XPS、AES급RBS분석연구,결과발현,Ar+복조하제비적양화물박막주요유부합화학제량비적Ta2O5화합물조성,인입적탄오염소.O+복조하제비적박막생성료저개적양화단,인입료대량적탄오염.
