功能材料与器件学报
功能材料與器件學報
공능재료여기건학보
JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS AND DEVICES
2010年
3期
281-284
,共4页
郑洋%刘晰%曲炳郡%韦丹%魏福林%任天令%刘理天
鄭洋%劉晰%麯炳郡%韋丹%魏福林%任天令%劉理天
정양%류석%곡병군%위단%위복림%임천령%류리천
巨磁电阻%磁控溅射%湿法刻蚀%粗糙度%种子层
巨磁電阻%磁控濺射%濕法刻蝕%粗糙度%種子層
거자전조%자공천사%습법각식%조조도%충자층
磁控溅射是一种能够在低温条件下生长大面积优质薄膜的工艺,广泛用在磁传感器和存储等领域.本文研究了在巨磁电阻(Giant Magneto Resistance:GMR)多层膜周围溅射接触紧密的CoCrPt硬磁膜的工艺,使得硬磁膜能为GMR提供磁场偏置,以解决小尺度GMR的噪声问题.研究中采用了1:5的BHF溶液的湿法刻蚀工艺,刻蚀速率为25 A/s,实现了刻蚀深度的精确控制,解决了薄膜对准的问题.同时改进了CoCrPt薄膜溅射的种子层,使得CoCrPt能在常温下溅射得到很好的晶体结构.这种工艺为基于GMR的小尺寸器件设计提供了可能性.
磁控濺射是一種能夠在低溫條件下生長大麵積優質薄膜的工藝,廣汎用在磁傳感器和存儲等領域.本文研究瞭在巨磁電阻(Giant Magneto Resistance:GMR)多層膜週圍濺射接觸緊密的CoCrPt硬磁膜的工藝,使得硬磁膜能為GMR提供磁場偏置,以解決小呎度GMR的譟聲問題.研究中採用瞭1:5的BHF溶液的濕法刻蝕工藝,刻蝕速率為25 A/s,實現瞭刻蝕深度的精確控製,解決瞭薄膜對準的問題.同時改進瞭CoCrPt薄膜濺射的種子層,使得CoCrPt能在常溫下濺射得到很好的晶體結構.這種工藝為基于GMR的小呎吋器件設計提供瞭可能性.
자공천사시일충능구재저온조건하생장대면적우질박막적공예,엄범용재자전감기화존저등영역.본문연구료재거자전조(Giant Magneto Resistance:GMR)다층막주위천사접촉긴밀적CoCrPt경자막적공예,사득경자막능위GMR제공자장편치,이해결소척도GMR적조성문제.연구중채용료1:5적BHF용액적습법각식공예,각식속솔위25 A/s,실현료각식심도적정학공제,해결료박막대준적문제.동시개진료CoCrPt박막천사적충자층,사득CoCrPt능재상온하천사득도흔호적정체결구.저충공예위기우GMR적소척촌기건설계제공료가능성.
