中国有色金属学报
中國有色金屬學報
중국유색금속학보
THE CHINESE JOURNAL OF NONFERROUS METALS
2004年
8期
1264-1268
,共5页
张玉娟%吴志国%张伟伟%李鑫%阎鹏勋%刘维民%薛群基
張玉娟%吳誌國%張偉偉%李鑫%閻鵬勛%劉維民%薛群基
장옥연%오지국%장위위%리흠%염붕훈%류유민%설군기
氮化钛%磁过滤等离子体%薄膜织构
氮化鈦%磁過濾等離子體%薄膜織構
담화태%자과려등리자체%박막직구
在室温条件下,利用自行设计的平面"S"形磁过滤等离子体设备,在(111)面单晶硅上制备TiN薄膜,通过改变基底偏压和反应气体成分,即通过改变氮气和氩气的气体流量来改变沉积离子的能量和密度,从离子轰击的角度研究了沉积条件对TiN薄膜织构的影响.对薄膜的表面形貌进行观察,用(θ～2θ)和1.5°掠入射2种X射线衍射方法对薄膜晶体结构和晶面取向进行了分析,对薄膜进行了电子衍射研究.结果显示磁过滤等离子制备的TiN薄膜表面平整光滑,颗粒尺寸为20～70 nm,且基底偏压和氩气流量的增大促使薄膜发生(111)面的择优取向,且(111)晶面与膜表面平行,而在高氩气流量的情况下,(200)和(220)面在薄膜平面也发生了定向排列.
在室溫條件下,利用自行設計的平麵"S"形磁過濾等離子體設備,在(111)麵單晶硅上製備TiN薄膜,通過改變基底偏壓和反應氣體成分,即通過改變氮氣和氬氣的氣體流量來改變沉積離子的能量和密度,從離子轟擊的角度研究瞭沉積條件對TiN薄膜織構的影響.對薄膜的錶麵形貌進行觀察,用(θ～2θ)和1.5°掠入射2種X射線衍射方法對薄膜晶體結構和晶麵取嚮進行瞭分析,對薄膜進行瞭電子衍射研究.結果顯示磁過濾等離子製備的TiN薄膜錶麵平整光滑,顆粒呎吋為20～70 nm,且基底偏壓和氬氣流量的增大促使薄膜髮生(111)麵的擇優取嚮,且(111)晶麵與膜錶麵平行,而在高氬氣流量的情況下,(200)和(220)麵在薄膜平麵也髮生瞭定嚮排列.
재실온조건하,이용자행설계적평면"S"형자과려등리자체설비,재(111)면단정규상제비TiN박막,통과개변기저편압화반응기체성분,즉통과개변담기화아기적기체류량래개변침적리자적능량화밀도,종리자굉격적각도연구료침적조건대TiN박막직구적영향.대박막적표면형모진행관찰,용(θ～2θ)화1.5°략입사2충X사선연사방법대박막정체결구화정면취향진행료분석,대박막진행료전자연사연구.결과현시자과려등리자제비적TiN박막표면평정광활,과립척촌위20～70 nm,차기저편압화아기류량적증대촉사박막발생(111)면적택우취향,차(111)정면여막표면평행,이재고아기류량적정황하,(200)화(220)면재박막평면야발생료정향배렬.
