中国有色金属学报
中國有色金屬學報
중국유색금속학보
THE CHINESE JOURNAL OF NONFERROUS METALS
2006年
12期
2104-2108
,共5页
李新军%樊俊林%郑少健%王建华
李新軍%樊俊林%鄭少健%王建華
리신군%번준림%정소건%왕건화
InVO4%Ni%光催化%可见光%控制掺杂
InVO4%Ni%光催化%可見光%控製摻雜
InVO4%Ni%광최화%가견광%공제참잡
采用溶胶-凝胶(sol-gel)法制备Ni控制掺杂的InVO4可见光催化剂薄膜.通过X射线衍射分析、差热-热重分析确定InVO4晶体结构及合成工艺;采用UV-vis分光光度计测定了薄膜的光吸收特性;利用电化学工作站研究了薄膜的光电化学特性;并通过亚甲基蓝溶液在可见光照射下的催化降解脱色率来表征薄膜的催化活性.实验结果表明:InVO4的晶型转化温度约为500℃;InVO4的光吸收在可见光范围;光电流谱显示Ni底层控制掺杂InVO4的信号明显增强,催化活性明显增强,而均匀掺杂的光电流信号减弱,催化活性降低.最后从光生载流子的分离方面初步探讨Ni控制掺杂对InVO4催化活性的影响机理.
採用溶膠-凝膠(sol-gel)法製備Ni控製摻雜的InVO4可見光催化劑薄膜.通過X射線衍射分析、差熱-熱重分析確定InVO4晶體結構及閤成工藝;採用UV-vis分光光度計測定瞭薄膜的光吸收特性;利用電化學工作站研究瞭薄膜的光電化學特性;併通過亞甲基藍溶液在可見光照射下的催化降解脫色率來錶徵薄膜的催化活性.實驗結果錶明:InVO4的晶型轉化溫度約為500℃;InVO4的光吸收在可見光範圍;光電流譜顯示Ni底層控製摻雜InVO4的信號明顯增彊,催化活性明顯增彊,而均勻摻雜的光電流信號減弱,催化活性降低.最後從光生載流子的分離方麵初步探討Ni控製摻雜對InVO4催化活性的影響機理.
채용용효-응효(sol-gel)법제비Ni공제참잡적InVO4가견광최화제박막.통과X사선연사분석、차열-열중분석학정InVO4정체결구급합성공예;채용UV-vis분광광도계측정료박막적광흡수특성;이용전화학공작참연구료박막적광전화학특성;병통과아갑기람용액재가견광조사하적최화강해탈색솔래표정박막적최화활성.실험결과표명:InVO4적정형전화온도약위500℃;InVO4적광흡수재가견광범위;광전류보현시Ni저층공제참잡InVO4적신호명현증강,최화활성명현증강,이균균참잡적광전류신호감약,최화활성강저.최후종광생재류자적분리방면초보탐토Ni공제참잡대InVO4최화활성적영향궤리.
