光学学报
光學學報
광학학보
ACTA OPTICA SINICA
2007年
4期
739-743
,共5页
郑丁葳%倪晟%赵强%王基庆
鄭丁葳%倪晟%趙彊%王基慶
정정위%예성%조강%왕기경
薄膜光学%ZnO薄膜%直流反应溅射%光学特性
薄膜光學%ZnO薄膜%直流反應濺射%光學特性
박막광학%ZnO박막%직류반응천사%광학특성
在室温,不同氧分压条件下,采用Zn靶直流反应溅射在石英衬底上制备了具有纤锌矿结构(002)择优取向的ZnO薄膜.薄膜的生长速率随氧分压的增大而减小,在20%～30%之间存在一个拐点,在此点之前,溅射产额减小的速率很快,而在此点之后,溅射产额减小的速率减慢了很多,当氧分压在30%以上时,溅射过程中Zn的氧化在靶表面就已经完成.通过单振子模型分析了薄膜的光学特性,采用X射线衍射的方法对薄膜的晶粒尺寸和应力进行分析.研究结果表明在氧分压20%以上时,薄膜在可见光波段具有较好的光学透明性和很高的电阻率.薄膜的光学折射率、晶面间距和内部应力均随着氧分压的增大而增大.并从薄膜生长机理上给出了理论解释.
在室溫,不同氧分壓條件下,採用Zn靶直流反應濺射在石英襯底上製備瞭具有纖鋅礦結構(002)擇優取嚮的ZnO薄膜.薄膜的生長速率隨氧分壓的增大而減小,在20%～30%之間存在一箇枴點,在此點之前,濺射產額減小的速率很快,而在此點之後,濺射產額減小的速率減慢瞭很多,噹氧分壓在30%以上時,濺射過程中Zn的氧化在靶錶麵就已經完成.通過單振子模型分析瞭薄膜的光學特性,採用X射線衍射的方法對薄膜的晶粒呎吋和應力進行分析.研究結果錶明在氧分壓20%以上時,薄膜在可見光波段具有較好的光學透明性和很高的電阻率.薄膜的光學摺射率、晶麵間距和內部應力均隨著氧分壓的增大而增大.併從薄膜生長機理上給齣瞭理論解釋.
재실온,불동양분압조건하,채용Zn파직류반응천사재석영츤저상제비료구유섬자광결구(002)택우취향적ZnO박막.박막적생장속솔수양분압적증대이감소,재20%～30%지간존재일개괴점,재차점지전,천사산액감소적속솔흔쾌,이재차점지후,천사산액감소적속솔감만료흔다,당양분압재30%이상시,천사과정중Zn적양화재파표면취이경완성.통과단진자모형분석료박막적광학특성,채용X사선연사적방법대박막적정립척촌화응력진행분석.연구결과표명재양분압20%이상시,박막재가견광파단구유교호적광학투명성화흔고적전조솔.박막적광학절사솔、정면간거화내부응력균수착양분압적증대이증대.병종박막생장궤리상급출료이론해석.
