光学精密工程
光學精密工程
광학정밀공정
OPTICS AND PRECISION ENGINEERING
2009年
9期
2176-2183
,共8页
孙晓娜%李刚%朱壮晖%周洪波%赵建龙%任秋实
孫曉娜%李剛%硃壯暉%週洪波%趙建龍%任鞦實
손효나%리강%주장휘%주홍파%조건룡%임추실
刺激电极%丘形柔性电极%微电极阵列%电流密度
刺激電極%丘形柔性電極%微電極陣列%電流密度
자격전겁%구형유성전겁%미전겁진렬%전류밀도
为了实现电极位点与靶细胞的良好接触,改善刺激效果,同时保证刺激电极的自身安全,提出了一种具有圆滑外形的丘形柔性神经刺激微电极阵列.以光敏性聚酰亚胺(Durimide 7510)为基质材料,利用光刻和金属层图形化结合电镀工艺,制作了6×6丘形柔性神经刺激微电极阵列,每个电极位点底面直径为150 μm,高度约为50 μm.通过数值模拟、形貌观测和电学性能测试对制备的微电极进行了评价.实验结果表明:相对于传统的平面微电极阵列(具有相同底面积),三维丘形电极位点的阻抗(@1kHz)降低了约4倍,可实现更有效的刺激;而相对于塔形电极,丘形电极则具有更均匀的表面电流密度分布,保证了电极长期工作的安全性.
為瞭實現電極位點與靶細胞的良好接觸,改善刺激效果,同時保證刺激電極的自身安全,提齣瞭一種具有圓滑外形的丘形柔性神經刺激微電極陣列.以光敏性聚酰亞胺(Durimide 7510)為基質材料,利用光刻和金屬層圖形化結閤電鍍工藝,製作瞭6×6丘形柔性神經刺激微電極陣列,每箇電極位點底麵直徑為150 μm,高度約為50 μm.通過數值模擬、形貌觀測和電學性能測試對製備的微電極進行瞭評價.實驗結果錶明:相對于傳統的平麵微電極陣列(具有相同底麵積),三維丘形電極位點的阻抗(@1kHz)降低瞭約4倍,可實現更有效的刺激;而相對于塔形電極,丘形電極則具有更均勻的錶麵電流密度分佈,保證瞭電極長期工作的安全性.
위료실현전겁위점여파세포적량호접촉,개선자격효과,동시보증자격전겁적자신안전,제출료일충구유원활외형적구형유성신경자격미전겁진렬.이광민성취선아알(Durimide 7510)위기질재료,이용광각화금속층도형화결합전도공예,제작료6×6구형유성신경자격미전겁진렬,매개전겁위점저면직경위150 μm,고도약위50 μm.통과수치모의、형모관측화전학성능측시대제비적미전겁진행료평개.실험결과표명:상대우전통적평면미전겁진렬(구유상동저면적),삼유구형전겁위점적조항(@1kHz)강저료약4배,가실현경유효적자격;이상대우탑형전겁,구형전겁칙구유경균균적표면전류밀도분포,보증료전겁장기공작적안전성.
