固体电子学研究与进展
固體電子學研究與進展
고체전자학연구여진전
RESEARCH & PROGRESS OF SOLID STATE ELECTRONICS
2006年
4期
460-465
,共6页
互补金属氧化物半导体%红外发光%可靠性
互補金屬氧化物半導體%紅外髮光%可靠性
호보금속양화물반도체%홍외발광%가고성
CMOS器件结构依靠其较低的功耗和高集成度而广泛应用于集成电路中,它在正常工作和发生失效时均存在微弱的显微红外发光现象.对CMOS结构的显微红外发光现象产生机制进行了研究和实际观察,将对深入了解CMOS器件中各种红外发光效应和分析其可靠性具有实际意义.
CMOS器件結構依靠其較低的功耗和高集成度而廣汎應用于集成電路中,它在正常工作和髮生失效時均存在微弱的顯微紅外髮光現象.對CMOS結構的顯微紅外髮光現象產生機製進行瞭研究和實際觀察,將對深入瞭解CMOS器件中各種紅外髮光效應和分析其可靠性具有實際意義.
CMOS기건결구의고기교저적공모화고집성도이엄범응용우집성전로중,타재정상공작화발생실효시균존재미약적현미홍외발광현상.대CMOS결구적현미홍외발광현상산생궤제진행료연구화실제관찰,장대심입료해CMOS기건중각충홍외발광효응화분석기가고성구유실제의의.
