光学学报
光學學報
광학학보
ACTA OPTICA SINICA
2007年
11期
1987-1991
,共5页
光学器件%光刻%测量模型%调焦调平%步进光刻机
光學器件%光刻%測量模型%調焦調平%步進光刻機
광학기건%광각%측량모형%조초조평%보진광각궤
成像质量是光学光刻机的最主要指标,硅片调焦调平测量是光刻机控制成像质量的基础.为此建立了硅片调焦调平测量系统单个测量点的测量模型,并根据硅片形貌标准和集成电路尺寸标准,推导了近似运算规则,简化了曝光场高度与测量光斑在光电探测器上的位置之间的数学关系.运用最小二乘法和平面拟合曝光场曲面的方法,推导了基于多个测量点的曝光场高度和倾斜测量的数学模型.该模型能满足调焦调平实时测量和控制的需要,可用于测量精度优于10 nm的高精度调焦调平测量系统,能满足线宽小于100 nm投影步进扫描光刻机的需要.
成像質量是光學光刻機的最主要指標,硅片調焦調平測量是光刻機控製成像質量的基礎.為此建立瞭硅片調焦調平測量繫統單箇測量點的測量模型,併根據硅片形貌標準和集成電路呎吋標準,推導瞭近似運算規則,簡化瞭曝光場高度與測量光斑在光電探測器上的位置之間的數學關繫.運用最小二乘法和平麵擬閤曝光場麯麵的方法,推導瞭基于多箇測量點的曝光場高度和傾斜測量的數學模型.該模型能滿足調焦調平實時測量和控製的需要,可用于測量精度優于10 nm的高精度調焦調平測量繫統,能滿足線寬小于100 nm投影步進掃描光刻機的需要.
성상질량시광학광각궤적최주요지표,규편조초조평측량시광각궤공제성상질량적기출.위차건립료규편조초조평측량계통단개측량점적측량모형,병근거규편형모표준화집성전로척촌표준,추도료근사운산규칙,간화료폭광장고도여측량광반재광전탐측기상적위치지간적수학관계.운용최소이승법화평면의합폭광장곡면적방법,추도료기우다개측량점적폭광장고도화경사측량적수학모형.해모형능만족조초조평실시측량화공제적수요,가용우측량정도우우10 nm적고정도조초조평측량계통,능만족선관소우100 nm투영보진소묘광각궤적수요.
