金属学报
金屬學報
금속학보
ACTA METALLURGICA SINICA
2007年
7期
764-768
,共5页
冷文华%刘东坡%程小芳%朱文彩%张鉴清%曹楚南
冷文華%劉東坡%程小芳%硃文綵%張鑒清%曹楚南
랭문화%류동파%정소방%주문채%장감청%조초남
WO3%电沉积%可见光%Cu%光电化学防腐蚀
WO3%電沉積%可見光%Cu%光電化學防腐蝕
WO3%전침적%가견광%Cu%광전화학방부식
采用阴极电沉积法制备了具有可见光光电响应的WO3薄膜电极.考察了制备工艺条件和光反应体系组成对电极光电响应性能的影响.结果表明:沉积电位-0.45 V(相对于饱和甘汞电极)、沉积时间1600 s、烧结温度400℃时电极光电性能较好;在光电化学电池中,阳极室添加空穴捕获剂(如甲酸和升高溶液pH值,有利于光电流输出.在阳极室溶液组成为0.5 mol/dm3Na2SO4+0.5 mol/dm3HCOOH(pH 9.6)时,WO3薄膜电极在可见光光照下可对4 mol/dm3NaCl溶液中金属Cu进行光电化学防腐蚀,为利用可见光实现对金属防腐蚀提供了一条新的途径.
採用陰極電沉積法製備瞭具有可見光光電響應的WO3薄膜電極.攷察瞭製備工藝條件和光反應體繫組成對電極光電響應性能的影響.結果錶明:沉積電位-0.45 V(相對于飽和甘汞電極)、沉積時間1600 s、燒結溫度400℃時電極光電性能較好;在光電化學電池中,暘極室添加空穴捕穫劑(如甲痠和升高溶液pH值,有利于光電流輸齣.在暘極室溶液組成為0.5 mol/dm3Na2SO4+0.5 mol/dm3HCOOH(pH 9.6)時,WO3薄膜電極在可見光光照下可對4 mol/dm3NaCl溶液中金屬Cu進行光電化學防腐蝕,為利用可見光實現對金屬防腐蝕提供瞭一條新的途徑.
채용음겁전침적법제비료구유가견광광전향응적WO3박막전겁.고찰료제비공예조건화광반응체계조성대전겁광전향응성능적영향.결과표명:침적전위-0.45 V(상대우포화감홍전겁)、침적시간1600 s、소결온도400℃시전겁광전성능교호;재광전화학전지중,양겁실첨가공혈포획제(여갑산화승고용액pH치,유리우광전류수출.재양겁실용액조성위0.5 mol/dm3Na2SO4+0.5 mol/dm3HCOOH(pH 9.6)시,WO3박막전겁재가견광광조하가대4 mol/dm3NaCl용액중금속Cu진행광전화학방부식,위이용가견광실현대금속방부식제공료일조신적도경.
