真空
真空
진공
VACUUM
2008年
2期
50-52
,共3页
王执乾%姚宁%李全友%秦玉华%高金海%史新伟%张兵临
王執乾%姚寧%李全友%秦玉華%高金海%史新偉%張兵臨
왕집건%요저%리전우%진옥화%고금해%사신위%장병림
碳纳米管%微波等离子体化学气相沉积%场发射
碳納米管%微波等離子體化學氣相沉積%場髮射
탄납미관%미파등리자체화학기상침적%장발사
以镀有Ti层的Al2O3为衬底,在微波等离子体化学气相沉积系统中,以CH4和H2为反应气体,快速制备了链状碳纳米管薄膜(沉积时间仅1 min).通过SEM、TEM和Raman光谱观察了薄膜的表面形貌,分析了薄膜的微观结构.在高真空室中测试了薄膜场发射特性,其开启电场为0.81 V/μm,在3.15 V/μm 电场下,其场发射电流密度达到9 mA/cm2,发射稳定,是一种良好的电子发射体.
以鍍有Ti層的Al2O3為襯底,在微波等離子體化學氣相沉積繫統中,以CH4和H2為反應氣體,快速製備瞭鏈狀碳納米管薄膜(沉積時間僅1 min).通過SEM、TEM和Raman光譜觀察瞭薄膜的錶麵形貌,分析瞭薄膜的微觀結構.在高真空室中測試瞭薄膜場髮射特性,其開啟電場為0.81 V/μm,在3.15 V/μm 電場下,其場髮射電流密度達到9 mA/cm2,髮射穩定,是一種良好的電子髮射體.
이도유Ti층적Al2O3위츤저,재미파등리자체화학기상침적계통중,이CH4화H2위반응기체,쾌속제비료련상탄납미관박막(침적시간부1 min).통과SEM、TEM화Raman광보관찰료박막적표면형모,분석료박막적미관결구.재고진공실중측시료박막장발사특성,기개계전장위0.81 V/μm,재3.15 V/μm 전장하,기장발사전류밀도체도9 mA/cm2,발사은정,시일충량호적전자발사체.
