稀有金属
稀有金屬
희유금속
CHINESE JOURNAL OF RARE METALS
2005年
6期
948-950
,共3页
氢氟酸%ICP-MS%标准加入法%金属杂质
氫氟痠%ICP-MS%標準加入法%金屬雜質
경불산%ICP-MS%표준가입법%금속잡질
研究了用HP 4500型 ICP-MS方法分析半导体用浓氢氟酸中的痕量杂质.在半导体业,所用试剂要求在10 ng·ml-1级.采用样品直接稀释法,在优化的实验条件下,采用HP 4500型ICP-MS实现了样品中Na,Mg,Al,K,Ca,Cr,Fe,Ni,Cu,Pb,10种杂质元素的同时测定,降低了样品玷污的可能性.屏蔽炬系统和冷等离子体的使用,很大程度上提高了检出限,使K,Ca和Fe获得令人满意的测量结果.所有元素的测定均在相同条件下进行,检出限为0.8～20 ng·ml-1.
研究瞭用HP 4500型 ICP-MS方法分析半導體用濃氫氟痠中的痕量雜質.在半導體業,所用試劑要求在10 ng·ml-1級.採用樣品直接稀釋法,在優化的實驗條件下,採用HP 4500型ICP-MS實現瞭樣品中Na,Mg,Al,K,Ca,Cr,Fe,Ni,Cu,Pb,10種雜質元素的同時測定,降低瞭樣品玷汙的可能性.屏蔽炬繫統和冷等離子體的使用,很大程度上提高瞭檢齣限,使K,Ca和Fe穫得令人滿意的測量結果.所有元素的測定均在相同條件下進行,檢齣限為0.8～20 ng·ml-1.
연구료용HP 4500형 ICP-MS방법분석반도체용농경불산중적흔량잡질.재반도체업,소용시제요구재10 ng·ml-1급.채용양품직접희석법,재우화적실험조건하,채용HP 4500형ICP-MS실현료양품중Na,Mg,Al,K,Ca,Cr,Fe,Ni,Cu,Pb,10충잡질원소적동시측정,강저료양품점오적가능성.병폐거계통화랭등리자체적사용,흔대정도상제고료검출한,사K,Ca화Fe획득령인만의적측량결과.소유원소적측정균재상동조건하진행,검출한위0.8～20 ng·ml-1.
