应用化工
應用化工
응용화공
APPLIED CHEMICAL INDUSTRY
2009年
6期
908-910
,共3页
樊群峰%司新生%张海娟%张沁
樊群峰%司新生%張海娟%張沁
번군봉%사신생%장해연%장심
化学镀%钯%镀层%沉积速率%稳定性
化學鍍%鈀%鍍層%沉積速率%穩定性
화학도%파%도층%침적속솔%은정성
采用无氧紫铜为基材,施镀条件为:pH=9.8±0.1,温度45～55 ℃,研究了化学镀钯工艺.结果表明,化学镀钯液优化组成为:3 g/L PdCl2,10～15 g/L NaH2PO2,160 mL/L NH4OH(28%),40 g/L NH4Cl.镀液稳定性好、温度范围宽,易于施镀、便于维护.所得镀层均匀、平整、半光亮.
採用無氧紫銅為基材,施鍍條件為:pH=9.8±0.1,溫度45～55 ℃,研究瞭化學鍍鈀工藝.結果錶明,化學鍍鈀液優化組成為:3 g/L PdCl2,10～15 g/L NaH2PO2,160 mL/L NH4OH(28%),40 g/L NH4Cl.鍍液穩定性好、溫度範圍寬,易于施鍍、便于維護.所得鍍層均勻、平整、半光亮.
채용무양자동위기재,시도조건위:pH=9.8±0.1,온도45～55 ℃,연구료화학도파공예.결과표명,화학도파액우화조성위:3 g/L PdCl2,10～15 g/L NaH2PO2,160 mL/L NH4OH(28%),40 g/L NH4Cl.도액은정성호、온도범위관,역우시도、편우유호.소득도층균균、평정、반광량.
