CAJ | 학술논문

采用超高真空脉冲激光沉积(PLD)方法,在单晶Si基底表面制备了单层Au、单层U薄膜和Au/U/Au复合薄膜,应用SEM、白光干涉轮廓分析和AES分析,研究了靶基距、基片温度和激光能量对薄膜形貌、成分的影响.目前的实验结果显示,PLD所制备的Au、U薄膜表面有μm级以下粒径的液滴产生,在液滴较少位置,薄膜表面粗糙度Ra小于1 nm,在包含大液滴位置,Ra不超过15 nm.在相同沉积条件下,U薄膜表面液滴数量大于Au薄膜.优化单层薄膜沉积工艺后制备的Au/U/Au复合膜厚度约为195 nm,均方根粗糙度Rq在0.3～1.5 nm之间.AES分析显示,Au/U/Au复合膜中强化学活性的铀呈金属状态,复合膜中的氧含量低于5％(原子百分数),表层Au薄膜对U薄膜起到了良好的防氧化作用.在沉积工艺中,通过减小激光功率、增大靶基距并适当升高基片温度,可减少液滴的数量及粒径.
채용초고진공맥충격광침적(PLD)방법,재단정Si기저표면제비료단층Au、단층U박막화Au/U/Au복합박막,응용SEM、백광간섭륜곽분석화AES분석,연구료파기거、기편온도화격광능량대박막형모、성분적영향.목전적실험결과현시,PLD소제비적Au、U박막표면유μm급이하립경적액적산생,재액적교소위치,박막표면조조도Ra소우1 nm,재포함대액적위치,Ra불초과15 nm.재상동침적조건하,U박막표면액적수량대우Au박막.우화단층박막침적공예후제비적Au/U/Au복합막후도약위195 nm,균방근조조도Rq재0.3～1.5 nm지간.AES분석현시,Au/U/Au복합막중강화학활성적유정금속상태,복합막중적양함량저우5％(원자백분수),표층Au박막대U박막기도료량호적방양화작용.재침적공예중,통과감소격광공솔、증대파기거병괄당승고기편온도,가감소액적적수량급립경.