西南师范大学学报(自然科学版)
西南師範大學學報(自然科學版)
서남사범대학학보(자연과학판)
JOURNAL OF SOUTHWEST CHINA NORMAL UNIVERSITY
2004年
2期
251-254
,共4页
化学气相沉积%沉积速率%薄膜
化學氣相沉積%沉積速率%薄膜
화학기상침적%침적속솔%박막
在Al2O3陶瓷基片上以正硅酸乙酯(TE0S)为原料,高纯氮气作载气,采用低压冷壁式设备和化学气相沉积(CVD)方法制备SiO2薄膜,研究了基片温度、TEOS温度和沉积时间对SiO2薄膜沉积速率的影响.采用XRD,XPS和SEM技术对SiO2薄膜的组成和结构进行了分析.
在Al2O3陶瓷基片上以正硅痠乙酯(TE0S)為原料,高純氮氣作載氣,採用低壓冷壁式設備和化學氣相沉積(CVD)方法製備SiO2薄膜,研究瞭基片溫度、TEOS溫度和沉積時間對SiO2薄膜沉積速率的影響.採用XRD,XPS和SEM技術對SiO2薄膜的組成和結構進行瞭分析.
재Al2O3도자기편상이정규산을지(TE0S)위원료,고순담기작재기,채용저압랭벽식설비화화학기상침적(CVD)방법제비SiO2박막,연구료기편온도、TEOS온도화침적시간대SiO2박막침적속솔적영향.채용XRD,XPS화SEM기술대SiO2박막적조성화결구진행료분석.
