硅基平面波导材料的制作
규기평면파도재료적제작
Fabrication of planar waveguide material on silicon
  • 万方数据
    功能材料与器件学报 공능재료여기건학보
    JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS AND DEVICES
    2000年 4期 432-435 ,共4页

    吴远大%张乐天%邢华%韦占雄%郑伟%刘国范%张玉书

    오원대%장악천%형화%위점웅%정위%류국범%장옥서

    火焰水解法(FHD)%波导%玻璃态SiO2 火燄水解法(FHD)%波導%玻璃態SiO2
    화염수해법(FHD)%파도%파리태SiO2
    采用火焰水解法(FHD)在Si 基上淀积SiO2预制材料,然后在真空中/空气气氛中高温处理(1380℃),制得玻璃化的SiO2 膜材料;该材料膜厚适中(10～30μm)、平整度好、光滑透明,适合制作单模、多模列阵平面波导光栅.并利用XRD、SEM、台阶仪等仪器对SiO2 膜进行了测试分析.
    채용화염수해법(FHD)재Si 기상정적SiO2예제재료,연후재진공중/공기기분중고온처리(1380℃),제득파리화적SiO2 막재료;해재료막후괄중(10～30μm)、평정도호、광활투명,괄합제작단모、다모렬진평면파도광책.병이용XRD、SEM、태계의등의기대SiO2 막진행료측시분석.
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