中频双靶反应磁控溅射制备TiO2膜的一些探索
중빈쌍파반응자공천사제비TiO2막적일사탐색
Deposition of TiO2 by medium frequency reactive dual magnetron sputtering
  • 万方数据
    真空 진공
    VACUUM
    2003年 1期 17-20 ,共4页

    赵来%刘翔宇%许生%范垂祯%高文波%陈旭%杨美芹%查良镇

    조래%류상우%허생%범수정%고문파%진욱%양미근%사량진

    反射型液晶显示器%中频双靶反应磁控溅射%TiO2膜 反射型液晶顯示器%中頻雙靶反應磁控濺射%TiO2膜
    반사형액정현시기%중빈쌍파반응자공천사%TiO2막
    具有高折射率的TiO2膜在反射型液晶显示器的关键部件高反射率背板膜系的制备中起重要作用.本文使用国内首家在线中频双靶反应磁控溅射设备进行了制备TiO2膜的探索,完成了相应的膜层测试与分析.实验结果表明双靶磁控反应溅射可以制备高折射率的TiO2膜,实验还从折射率的角度证明中频双靶反应溅射与直流反应溅射的效果一致,为进一步提高膜层沉积速率以适应工业生产需求需要引入更有效的溅射过程控制手段.
    구유고절사솔적TiO2막재반사형액정현시기적관건부건고반사솔배판막계적제비중기중요작용.본문사용국내수가재선중빈쌍파반응자공천사설비진행료제비TiO2막적탐색,완성료상응적막층측시여분석.실험결과표명쌍파자공반응천사가이제비고절사솔적TiO2막,실험환종절사솔적각도증명중빈쌍파반응천사여직류반응천사적효과일치,위진일보제고막층침적속솔이괄응공업생산수구수요인입경유효적천사과정공제수단.
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