光学仪器
光學儀器
광학의기
OPTICAL INSTRUMENTS
2001年
5期
76-80
,共5页
V2O5%光学性能%热处理%结构
V2O5%光學性能%熱處理%結構
V2O5%광학성능%열처리%결구
用射频平面磁控溅射法在Ar/O2气氛中溅射V2O5粉末靶制得V2O5薄膜,然后在大气中对样品薄膜作250℃～400℃的热处理试验.用XRD分析表明薄膜随着热处理温度的升高,除了晶粒尺寸不断长大以外,薄膜的组分也在发生不断的变化,在低温下处理时出现的某些结构在高温处理后消失,同样在高温下处理后也出现了一些低温下没有出现的新结构.这种结构变化导致在300℃以下的温度处理后的薄膜在可见光和近红外波段都有异常大的吸收;在350℃以上的温度处理后的薄膜在可见光和近红外波段的吸收显著地减小.
用射頻平麵磁控濺射法在Ar/O2氣氛中濺射V2O5粉末靶製得V2O5薄膜,然後在大氣中對樣品薄膜作250℃～400℃的熱處理試驗.用XRD分析錶明薄膜隨著熱處理溫度的升高,除瞭晶粒呎吋不斷長大以外,薄膜的組分也在髮生不斷的變化,在低溫下處理時齣現的某些結構在高溫處理後消失,同樣在高溫下處理後也齣現瞭一些低溫下沒有齣現的新結構.這種結構變化導緻在300℃以下的溫度處理後的薄膜在可見光和近紅外波段都有異常大的吸收;在350℃以上的溫度處理後的薄膜在可見光和近紅外波段的吸收顯著地減小.
용사빈평면자공천사법재Ar/O2기분중천사V2O5분말파제득V2O5박막,연후재대기중대양품박막작250℃～400℃적열처리시험.용XRD분석표명박막수착열처리온도적승고,제료정립척촌불단장대이외,박막적조분야재발생불단적변화,재저온하처리시출현적모사결구재고온처리후소실,동양재고온하처리후야출현료일사저온하몰유출현적신결구.저충결구변화도치재300℃이하적온도처리후적박막재가견광화근홍외파단도유이상대적흡수;재350℃이상적온도처리후적박막재가견광화근홍외파단적흡수현저지감소.
