真空
真空
진공
VACUUM
2011年
3期
49-54
,共6页
沈向前%谢泉%肖清泉%余志强
瀋嚮前%謝泉%肖清泉%餘誌彊
침향전%사천%초청천%여지강
磁控溅射%蒙特卡罗方法%计算机模拟
磁控濺射%矇特卡囉方法%計算機模擬
자공천사%몽특잡라방법%계산궤모의
本文基于蒙特卡罗方法,并结合SRIM软件,编制程序跟踪模拟了磁控溅射各物理过程的粒子状态.以铝靶材为例,得到了粒子在磁控溅射各物理过程的状态分布,讨论了工作参数对薄膜沉积过程的影响.模拟结果表明:溅射原子的能量主要分布在20 eV以下,当原子沉积到基片表面时,其能量主要分布在15 eV以下,但有两个分布峰值,两个分布峰值对应着快慢两种不同形式的沉积过程.原子沉积到基片 表面的位置大致服从正态分布,气压p和靶基距离d影响正态分布的方差,也即影响沉积原子在基片表 面分布的均匀性.功率与沉积速度呈良好的线性关系,在工作气压为1 Pa,靶基距离为60mm的条件下,当入射粒子的能量为250 eV时,模拟得到的功率效率最大.
本文基于矇特卡囉方法,併結閤SRIM軟件,編製程序跟蹤模擬瞭磁控濺射各物理過程的粒子狀態.以鋁靶材為例,得到瞭粒子在磁控濺射各物理過程的狀態分佈,討論瞭工作參數對薄膜沉積過程的影響.模擬結果錶明:濺射原子的能量主要分佈在20 eV以下,噹原子沉積到基片錶麵時,其能量主要分佈在15 eV以下,但有兩箇分佈峰值,兩箇分佈峰值對應著快慢兩種不同形式的沉積過程.原子沉積到基片 錶麵的位置大緻服從正態分佈,氣壓p和靶基距離d影響正態分佈的方差,也即影響沉積原子在基片錶 麵分佈的均勻性.功率與沉積速度呈良好的線性關繫,在工作氣壓為1 Pa,靶基距離為60mm的條件下,噹入射粒子的能量為250 eV時,模擬得到的功率效率最大.
본문기우몽특잡라방법,병결합SRIM연건,편제정서근종모의료자공천사각물리과정적입자상태.이려파재위례,득도료입자재자공천사각물리과정적상태분포,토론료공작삼수대박막침적과정적영향.모의결과표명:천사원자적능량주요분포재20 eV이하,당원자침적도기편표면시,기능량주요분포재15 eV이하,단유량개분포봉치,량개분포봉치대응착쾌만량충불동형식적침적과정.원자침적도기편 표면적위치대치복종정태분포,기압p화파기거리d영향정태분포적방차,야즉영향침적원자재기편표 면분포적균균성.공솔여침적속도정량호적선성관계,재공작기압위1 Pa,파기거리위60mm적조건하,당입사입자적능량위250 eV시,모의득도적공솔효솔최대.
