电子显微学报
電子顯微學報
전자현미학보
JOURNAL OF CHINESE ELECTRON MICROSCOPY SOCIETY
2011年
4期
372-377
,共6页
李萧%杨平%林瑞民%刘西峰
李蕭%楊平%林瑞民%劉西峰
리소%양평%림서민%류서봉
SPCD%再结晶%取向%EBSD
SPCD%再結晶%取嚮%EBSD
SPCD%재결정%취향%EBSD
利用背散射电子衍射(EBSD)技术和X射线衍射(XRD)对SPCD冷轧钢板缓慢升温退火工艺下的再结晶取向特征、织构的形成规律及与形变织构的关系进行研究,并与快速加热退火工艺下的IF钢再结晶取向特点进行对比.结果表明:宏观织构显示冷轧态下{111}〈112〉形变织构稳定存在,随后的再结晶过程中γ线上存在{111}〈112〉与{111}〈110〉织构的竞争,其中再结晶初期{111} 〈112〉织构占主导,后期{111} 〈110〉吞食{112} 〈110〉和{001}〈110〉织构进而取代{111}〈112〉作为γ线织构的主导取向;不同取向新晶粒具有不同的再结晶形核地点:{111} 〈110〉新晶粒主要在{112}〈110〉和{111} 〈112〉形变晶粒的晶界处形核;{111}〈112〉新晶粒主要在相同取向的形变晶粒内形核;而{110} 〈001〉新晶粒主要在{111}〈112〉形变晶粒的形变带内形核.
利用揹散射電子衍射(EBSD)技術和X射線衍射(XRD)對SPCD冷軋鋼闆緩慢升溫退火工藝下的再結晶取嚮特徵、織構的形成規律及與形變織構的關繫進行研究,併與快速加熱退火工藝下的IF鋼再結晶取嚮特點進行對比.結果錶明:宏觀織構顯示冷軋態下{111}〈112〉形變織構穩定存在,隨後的再結晶過程中γ線上存在{111}〈112〉與{111}〈110〉織構的競爭,其中再結晶初期{111} 〈112〉織構佔主導,後期{111} 〈110〉吞食{112} 〈110〉和{001}〈110〉織構進而取代{111}〈112〉作為γ線織構的主導取嚮;不同取嚮新晶粒具有不同的再結晶形覈地點:{111} 〈110〉新晶粒主要在{112}〈110〉和{111} 〈112〉形變晶粒的晶界處形覈;{111}〈112〉新晶粒主要在相同取嚮的形變晶粒內形覈;而{110} 〈001〉新晶粒主要在{111}〈112〉形變晶粒的形變帶內形覈.
이용배산사전자연사(EBSD)기술화X사선연사(XRD)대SPCD랭알강판완만승온퇴화공예하적재결정취향특정、직구적형성규률급여형변직구적관계진행연구,병여쾌속가열퇴화공예하적IF강재결정취향특점진행대비.결과표명:굉관직구현시랭알태하{111}〈112〉형변직구은정존재,수후적재결정과정중γ선상존재{111}〈112〉여{111}〈110〉직구적경쟁,기중재결정초기{111} 〈112〉직구점주도,후기{111} 〈110〉탄식{112} 〈110〉화{001}〈110〉직구진이취대{111}〈112〉작위γ선직구적주도취향;불동취향신정립구유불동적재결정형핵지점:{111} 〈110〉신정립주요재{112}〈110〉화{111} 〈112〉형변정립적정계처형핵;{111}〈112〉신정립주요재상동취향적형변정립내형핵;이{110} 〈001〉신정립주요재{111}〈112〉형변정립적형변대내형핵.