真空
真空
진공
VACUUM
2011年
5期
32-34
,共3页
半导体%透过率%光的干涉%膜厚
半導體%透過率%光的榦涉%膜厚
반도체%투과솔%광적간섭%막후
使用紫外可见分光光度计测最光学薄膜,获得透过率图谱或者反射、吸收谱,利用薄膜上下表面光的于涉原理,通过简单计算,就可以方便快捷地估算出薄膜厚度.用磁控溅射法制备了ITO薄膜,使用该干涉法和台阶仪分别测最了膜厚,将结果进行了对比.结果表明,干涉法测量光学薄膜简单、快捷,设备要求不高,实用性强,方法可行.
使用紫外可見分光光度計測最光學薄膜,穫得透過率圖譜或者反射、吸收譜,利用薄膜上下錶麵光的于涉原理,通過簡單計算,就可以方便快捷地估算齣薄膜厚度.用磁控濺射法製備瞭ITO薄膜,使用該榦涉法和檯階儀分彆測最瞭膜厚,將結果進行瞭對比.結果錶明,榦涉法測量光學薄膜簡單、快捷,設備要求不高,實用性彊,方法可行.
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