人工晶体学报
人工晶體學報
인공정체학보
2008年
4期
849-852
,共4页
WANG Yin-zhen%徐军%CHU Ben-li%何琴玉
WANG Yin-zhen%徐軍%CHU Ben-li%何琴玉
WANG Yin-zhen%서군%CHU Ben-li%하금옥
ZnO薄膜%MOCVD%CaF2
ZnO薄膜%MOCVD%CaF2
ZnO박막%MOCVD%CaF2
采用金属有机化学汽相沉积(MOCVD)法在(220)CaF2衬底上外延生长ZnO薄膜.利用X射线衍射(XRD)、紫外-可见光谱和光致发光谱(PL)对ZnO薄膜的结构和光学性能进行了分析.XRD结果表明,所制备的ZnO薄膜结晶性能良好,具有高度的(002)的择优取向,002衍射峰的半高宽(FMHM)为0.115°.所制备的ZnO薄膜透明,透过率超过85%.在常温的(He-Cd激光器)PL谱中,只有378.5 nm的带边发射.用同步辐射光源测试的真空紫外光谱中,在低温20K时,出现218 nm、368 nm、418 nm、554 nm发光峰,其中368 nm峰强度随着温度的升高强度逐渐下降,到常温时几乎消失.
採用金屬有機化學汽相沉積(MOCVD)法在(220)CaF2襯底上外延生長ZnO薄膜.利用X射線衍射(XRD)、紫外-可見光譜和光緻髮光譜(PL)對ZnO薄膜的結構和光學性能進行瞭分析.XRD結果錶明,所製備的ZnO薄膜結晶性能良好,具有高度的(002)的擇優取嚮,002衍射峰的半高寬(FMHM)為0.115°.所製備的ZnO薄膜透明,透過率超過85%.在常溫的(He-Cd激光器)PL譜中,隻有378.5 nm的帶邊髮射.用同步輻射光源測試的真空紫外光譜中,在低溫20K時,齣現218 nm、368 nm、418 nm、554 nm髮光峰,其中368 nm峰彊度隨著溫度的升高彊度逐漸下降,到常溫時幾乎消失.
채용금속유궤화학기상침적(MOCVD)법재(220)CaF2츤저상외연생장ZnO박막.이용X사선연사(XRD)、자외-가견광보화광치발광보(PL)대ZnO박막적결구화광학성능진행료분석.XRD결과표명,소제비적ZnO박막결정성능량호,구유고도적(002)적택우취향,002연사봉적반고관(FMHM)위0.115°.소제비적ZnO박막투명,투과솔초과85%.재상온적(He-Cd격광기)PL보중,지유378.5 nm적대변발사.용동보복사광원측시적진공자외광보중,재저온20K시,출현218 nm、368 nm、418 nm、554 nm발광봉,기중368 nm봉강도수착온도적승고강도축점하강,도상온시궤호소실.
