西北师范大学学报（自然科学版）
西北師範大學學報（自然科學版）
서북사범대학학보（자연과학판）
JOURNAL OF NORTHWEST NORMAL UNIVERSITY(NATURAL SCIENCE)
2006年
6期
40-43
,共4页
γ射线辐照%光致发光%发光中心%高斯峰
γ射線輻照%光緻髮光%髮光中心%高斯峰
γ사선복조%광치발광%발광중심%고사봉
采用γ射线辐照含纳米硅的氧化硅薄膜,测量了其辐照前后的光致发光谱.用Gauss函数对各发光谱进行了拟合,结果表明各光谱都是三峰结构.γ辐照后,除原有的2个位于800 nm(1.55 eV)和710 nm(1.75 eV)的发光峰峰位几乎未变之外,位于640 nm(1.94 eV)的肩峰被一个很强的580 nm(2.14 eV)的新峰遮盖.根据实验现象与光谱分析,可以认为含纳米硅的氧化硅薄膜的光发射主要来自电子-空穴对在SiO2 层发光中心上的辐射复合.
採用γ射線輻照含納米硅的氧化硅薄膜,測量瞭其輻照前後的光緻髮光譜.用Gauss函數對各髮光譜進行瞭擬閤,結果錶明各光譜都是三峰結構.γ輻照後,除原有的2箇位于800 nm(1.55 eV)和710 nm(1.75 eV)的髮光峰峰位幾乎未變之外,位于640 nm(1.94 eV)的肩峰被一箇很彊的580 nm(2.14 eV)的新峰遮蓋.根據實驗現象與光譜分析,可以認為含納米硅的氧化硅薄膜的光髮射主要來自電子-空穴對在SiO2 層髮光中心上的輻射複閤.
채용γ사선복조함납미규적양화규박막,측량료기복조전후적광치발광보.용Gauss함수대각발광보진행료의합,결과표명각광보도시삼봉결구.γ복조후,제원유적2개위우800 nm(1.55 eV)화710 nm(1.75 eV)적발광봉봉위궤호미변지외,위우640 nm(1.94 eV)적견봉피일개흔강적580 nm(2.14 eV)적신봉차개.근거실험현상여광보분석,가이인위함납미규적양화규박막적광발사주요래자전자-공혈대재SiO2 층발광중심상적복사복합.
