功能材料
功能材料
공능재료
JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS
2011年
z1期
129-132
,共4页
真空共蒸发%CuInS2薄膜%热处理%光学特性
真空共蒸髮%CuInS2薄膜%熱處理%光學特性
진공공증발%CuInS2박막%열처리%광학특성
真空共蒸发在玻璃衬底上制备CuInS2薄膜.研究不同Cu、In、S元素配比、不同热处理条件对薄膜的结构、化学计量比及光学性能的影响.实验结果给出:在元素配比中S的原子比x选择极为重要(实验选0.2≤x≤2),本实验Cu、In、S最佳原子比为1:0.1:1.2.用x(Cu).x(In):x(S)=1:0.1:1.2原子比混合沉积的薄膜,经400℃热处理20min后,得到黄铜矿结构的CuInS2薄膜,沿[112]晶向择优生长,平均晶粒尺寸为38.06nm;薄膜表面致密平整,厚度为454.8nm,表面粗糙度为13nm;薄膜中元素的化学计量比为1:0.9:1.5,光学吸收系数达105cm-1,直接光学带隙1.42eV.
真空共蒸髮在玻璃襯底上製備CuInS2薄膜.研究不同Cu、In、S元素配比、不同熱處理條件對薄膜的結構、化學計量比及光學性能的影響.實驗結果給齣:在元素配比中S的原子比x選擇極為重要(實驗選0.2≤x≤2),本實驗Cu、In、S最佳原子比為1:0.1:1.2.用x(Cu).x(In):x(S)=1:0.1:1.2原子比混閤沉積的薄膜,經400℃熱處理20min後,得到黃銅礦結構的CuInS2薄膜,沿[112]晶嚮擇優生長,平均晶粒呎吋為38.06nm;薄膜錶麵緻密平整,厚度為454.8nm,錶麵粗糙度為13nm;薄膜中元素的化學計量比為1:0.9:1.5,光學吸收繫數達105cm-1,直接光學帶隙1.42eV.
진공공증발재파리츤저상제비CuInS2박막.연구불동Cu、In、S원소배비、불동열처리조건대박막적결구、화학계량비급광학성능적영향.실험결과급출:재원소배비중S적원자비x선택겁위중요(실험선0.2≤x≤2),본실험Cu、In、S최가원자비위1:0.1:1.2.용x(Cu).x(In):x(S)=1:0.1:1.2원자비혼합침적적박막,경400℃열처리20min후,득도황동광결구적CuInS2박막,연[112]정향택우생장,평균정립척촌위38.06nm;박막표면치밀평정,후도위454.8nm,표면조조도위13nm;박막중원소적화학계량비위1:0.9:1.5,광학흡수계수체105cm-1,직접광학대극1.42eV.
