电子工业专用设备
電子工業專用設備
전자공업전용설비
EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
2005年
11期
27-33
,共7页
下一代光刻技术%浸没式光刻技术%极端远紫外光刻技术%纳米压印光刻技术%无掩模光刻技术
下一代光刻技術%浸沒式光刻技術%極耑遠紫外光刻技術%納米壓印光刻技術%無掩模光刻技術
하일대광각기술%침몰식광각기술%겁단원자외광각기술%납미압인광각기술%무엄모광각기술
介绍了下一代光刻技术的演变,重点描述了浸没式光刻技术、极端远紫外光刻技术、纳米压印光刻技术和无掩模光刻技术的基本原理、技术优势、技术难点以及研发,并展望了这几种光刻技术的前景.
介紹瞭下一代光刻技術的縯變,重點描述瞭浸沒式光刻技術、極耑遠紫外光刻技術、納米壓印光刻技術和無掩模光刻技術的基本原理、技術優勢、技術難點以及研髮,併展望瞭這幾種光刻技術的前景.
개소료하일대광각기술적연변,중점묘술료침몰식광각기술、겁단원자외광각기술、납미압인광각기술화무엄모광각기술적기본원리、기술우세、기술난점이급연발,병전망료저궤충광각기술적전경.
