红外与激光工程
紅外與激光工程
홍외여격광공정
INFRARED AND LASER ENGINEERING
2010年
6期
1096-1099
,共4页
硅衬底%减反射层%纳米粒子%催化荆
硅襯底%減反射層%納米粒子%催化荊
규츤저%감반사층%납미입자%최화형
制备高效硅太阳能电池,需要在整个太阳光谱范围内进行有效陷光和保持低反射率.基于贵金属粒子湿法辅助刻蚀方法,在P型(100)单晶硅表面溅射了一层厚度为1～5 nm的非连续分布Pt粒子层作为催化剂,浸入HF/H2O2的水溶液中进行湿法刻蚀,制备的减反射层在300～800 nm入射光波段范围的平均减反射率低于7%,减反射效果明显优于传统的热碱溶液刻蚀单晶硅所得的织构.通过进一步优化工艺参数,并增镀SiNx等减反射膜,陷光效果将会进一步提高.研究结果为高效太阳能电池的设计提供了新思路.
製備高效硅太暘能電池,需要在整箇太暘光譜範圍內進行有效陷光和保持低反射率.基于貴金屬粒子濕法輔助刻蝕方法,在P型(100)單晶硅錶麵濺射瞭一層厚度為1～5 nm的非連續分佈Pt粒子層作為催化劑,浸入HF/H2O2的水溶液中進行濕法刻蝕,製備的減反射層在300～800 nm入射光波段範圍的平均減反射率低于7%,減反射效果明顯優于傳統的熱堿溶液刻蝕單晶硅所得的織構.通過進一步優化工藝參數,併增鍍SiNx等減反射膜,陷光效果將會進一步提高.研究結果為高效太暘能電池的設計提供瞭新思路.
제비고효규태양능전지,수요재정개태양광보범위내진행유효함광화보지저반사솔.기우귀금속입자습법보조각식방법,재P형(100)단정규표면천사료일층후도위1～5 nm적비련속분포Pt입자층작위최화제,침입HF/H2O2적수용액중진행습법각식,제비적감반사층재300～800 nm입사광파단범위적평균감반사솔저우7%,감반사효과명현우우전통적열감용액각식단정규소득적직구.통과진일보우화공예삼수,병증도SiNx등감반사막,함광효과장회진일보제고.연구결과위고효태양능전지적설계제공료신사로.
