CAJ | 학술논문

采用螺旋波等离子体增强化学气相沉积技术进行了氢化纳米晶态SiC薄膜的沉积,研究了氢流量对其微结构和光学特性的影响.结果显示,随着氢气流量的增大,薄膜的沉积速率先增大后减小,所生长薄膜晶化度显著提高.在较低氢流量条件下,薄膜光学带隙的大小由氢的刻蚀与悬键终止作用共同控制,并呈先减小后增大的趋势.在高氢流量条件下,强的氢刻蚀使薄膜具有较高的晶化度,虽然薄膜中整体氢含量有所下降,但存在于纳米碳化硅晶粒表面键合氢的相对密度持续增大,纳米碳化硅晶粒数量的增加和晶粒尺寸的减小所导致的量子限制效应使薄膜的光学带隙继续展宽.
채용라선파등리자체증강화학기상침적기술진행료경화납미정태SiC박막적침적,연구료경류량대기미결구화광학특성적영향.결과현시,수착경기류량적증대,박막적침적속솔선증대후감소,소생장박막정화도현저제고.재교저경류량조건하,박막광학대극적대소유경적각식여현건종지작용공동공제,병정선감소후증대적추세.재고경류량조건하,강적경각식사박막구유교고적정화도,수연박막중정체경함량유소하강,단존재우납미탄화규정립표면건합경적상대밀도지속증대,납미탄화규정립수량적증가화정립척촌적감소소도치적양자한제효응사박막적광학대극계속전관.