光学精密工程
光學精密工程
광학정밀공정
OPTICS AND PRECISION ENGINEERING
2008年
9期
1603-1607
,共5页
王彤彤%高劲松%王笑夷%陈红%郑宣鸣%范镝%申振峰
王彤彤%高勁鬆%王笑夷%陳紅%鄭宣鳴%範鏑%申振峰
왕동동%고경송%왕소이%진홍%정선명%범적%신진봉
薄膜制备%碳化硅薄膜%表面改性%离子辅助电离%硬度和弹性模量
薄膜製備%碳化硅薄膜%錶麵改性%離子輔助電離%硬度和彈性模量
박막제비%탄화규박막%표면개성%리자보조전리%경도화탄성모량
应用电子束蒸发硅,霍尔离子源电离甲烷,并辅助沉积的方法在反应烧结碳化硅(RB SiC)基底上沉积了碳化硅(SiC:H)改性薄膜.X射线衍射(XRD)测试表明制备的碳化硅改性薄膜为α相.通过控制沉积速率,制备了硬度为9.781～13.087GPa,弹性模量为89.344～123.413GPa的碳化硅改件薄膜.比较同样条件下镀制银膜的抛光良好微晶玻璃和经过精细抛光的改性 RB SiC,结果表明两者反射率相近;附着力实验表明,制备的薄膜和基底结合良好;在温度冲击实验下,制备的薄膜无龟裂和脱落.
應用電子束蒸髮硅,霍爾離子源電離甲烷,併輔助沉積的方法在反應燒結碳化硅(RB SiC)基底上沉積瞭碳化硅(SiC:H)改性薄膜.X射線衍射(XRD)測試錶明製備的碳化硅改性薄膜為α相.通過控製沉積速率,製備瞭硬度為9.781～13.087GPa,彈性模量為89.344～123.413GPa的碳化硅改件薄膜.比較同樣條件下鍍製銀膜的拋光良好微晶玻璃和經過精細拋光的改性 RB SiC,結果錶明兩者反射率相近;附著力實驗錶明,製備的薄膜和基底結閤良好;在溫度遲擊實驗下,製備的薄膜無龜裂和脫落.
응용전자속증발규,곽이리자원전리갑완,병보조침적적방법재반응소결탄화규(RB SiC)기저상침적료탄화규(SiC:H)개성박막.X사선연사(XRD)측시표명제비적탄화규개성박막위α상.통과공제침적속솔,제비료경도위9.781～13.087GPa,탄성모량위89.344～123.413GPa적탄화규개건박막.비교동양조건하도제은막적포광량호미정파리화경과정세포광적개성 RB SiC,결과표명량자반사솔상근;부착력실험표명,제비적박막화기저결합량호;재온도충격실험하,제비적박막무구렬화탈락.
