电子工艺技术
電子工藝技術
전자공예기술
ELECTRONICS PROCESS TECHNOLOGY
2009年
3期
125-127,136
,共4页
王超%张永华%郭兴龙%欧阳炜霞%赖宗声
王超%張永華%郭興龍%歐暘煒霞%賴宗聲
왕초%장영화%곽흥룡%구양위하%뢰종성
射频微机械开关%牺牲层%聚酰亚胺%正胶%刻蚀
射頻微機械開關%犧牲層%聚酰亞胺%正膠%刻蝕
사빈미궤계개관%희생층%취선아알%정효%각식
以MEMS滤波器中的MEMS开关牺牲层的工艺为例,通过同时运用聚酰亚胺和正胶作为牺牲层材料的方法,避免了牺牲层单独使用聚酰亚胺做材料难于去除,或单独使用光刻胶做材料,叠层旋涂光刻胶时会出现龟裂的缺点.改善了牺牲层固化和刻蚀的效果,减小了刻蚀的时间.此研究应用在表面微细加工工艺中,对MEMS加工工艺具有一定的参考价值.
以MEMS濾波器中的MEMS開關犧牲層的工藝為例,通過同時運用聚酰亞胺和正膠作為犧牲層材料的方法,避免瞭犧牲層單獨使用聚酰亞胺做材料難于去除,或單獨使用光刻膠做材料,疊層鏇塗光刻膠時會齣現龜裂的缺點.改善瞭犧牲層固化和刻蝕的效果,減小瞭刻蝕的時間.此研究應用在錶麵微細加工工藝中,對MEMS加工工藝具有一定的參攷價值.
이MEMS려파기중적MEMS개관희생층적공예위례,통과동시운용취선아알화정효작위희생층재료적방법,피면료희생층단독사용취선아알주재료난우거제,혹단독사용광각효주재료,첩층선도광각효시회출현구렬적결점.개선료희생층고화화각식적효과,감소료각식적시간.차연구응용재표면미세가공공예중,대MEMS가공공예구유일정적삼고개치.
