CVD技术在制备含硅化合物膜层中的应用
CVD기술재제비함규화합물막층중적응용
The Application of CVD in Fabrication of Silicidized Films
  • 万方数据
    材料科学与工程 재료과학여공정
    MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING
    2001年 2期 128-131 ,共4页

    刘立%沈复初%袁骏%叶必光%田丽%郦剑

    류립%침복초%원준%협필광%전려%역검

    CVD%含硅化合物膜 CVD%含硅化閤物膜
    CVD%함규화합물막
    本文综述了近十几年来CVD技术在不同基底材料上制取含硅化合物膜层的研究应用,并提出了目前存在的问题.
    본문종술료근십궤년래CVD기술재불동기저재료상제취함규화합물막층적연구응용,병제출료목전존재적문제.
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