中国科学A辑
中國科學A輯
중국과학A집
SCIENCE IN CHINA (SERIES A)
2000年
11期
1019-1024
,共6页
碳纳米管阵列%场电子发射%多孔氧化铝模板%化学气相沉积
碳納米管陣列%場電子髮射%多孔氧化鋁模闆%化學氣相沉積
탄납미관진렬%장전자발사%다공양화려모판%화학기상침적
用多孔阳极氧化铝(AAO)模板, 进行化学气相沉积(CVD), 成功制备出一种大面积高度取向、分立有序的由表面碳膜固定保持的碳纳米管阵列膜.直接将它作为场电子发射体,发现它同样具有良好的场电子发射特性.初步研究结果表明, 这种由碳纳米管自组装形成的有序阵列膜开启电场为2～4 V/μm,最大发射电流可达12 mA/cm2; 在发射电流密度j≤1 mA/cm2时, 可稳定发射, 有很长的耐久性; 实验结果的拟合曲线符合Fowler-Nordheim模型,场发射增强因子为1 100～7 500.这种原料来源丰富、制备方法简便、成本低的场电子发射材料, 对平板显示技术有良好的应用前景.
用多孔暘極氧化鋁(AAO)模闆, 進行化學氣相沉積(CVD), 成功製備齣一種大麵積高度取嚮、分立有序的由錶麵碳膜固定保持的碳納米管陣列膜.直接將它作為場電子髮射體,髮現它同樣具有良好的場電子髮射特性.初步研究結果錶明, 這種由碳納米管自組裝形成的有序陣列膜開啟電場為2～4 V/μm,最大髮射電流可達12 mA/cm2; 在髮射電流密度j≤1 mA/cm2時, 可穩定髮射, 有很長的耐久性; 實驗結果的擬閤麯線符閤Fowler-Nordheim模型,場髮射增彊因子為1 100～7 500.這種原料來源豐富、製備方法簡便、成本低的場電子髮射材料, 對平闆顯示技術有良好的應用前景.
용다공양겁양화려(AAO)모판, 진행화학기상침적(CVD), 성공제비출일충대면적고도취향、분립유서적유표면탄막고정보지적탄납미관진렬막.직접장타작위장전자발사체,발현타동양구유량호적장전자발사특성.초보연구결과표명, 저충유탄납미관자조장형성적유서진렬막개계전장위2～4 V/μm,최대발사전류가체12 mA/cm2; 재발사전류밀도j≤1 mA/cm2시, 가은정발사, 유흔장적내구성; 실험결과적의합곡선부합Fowler-Nordheim모형,장발사증강인자위1 100～7 500.저충원료래원봉부、제비방법간편、성본저적장전자발사재료, 대평판현시기술유량호적응용전경.
