新型变密度卤化物/MCP反射式X射线敏感薄膜的研究
신형변밀도서화물/MCP반사식X사선민감박막적연구
Study on New MCP Reflection X-ray Sensitive Film of Variable Density Halide
  • 万方数据
    发光学报 발광학보
    CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE
    2002年 5期 513-517 ,共5页

    田景全%姜德龙%孙秀平%富丽晨%但唐仁%李野%卢耀华%端木庆铎

    전경전%강덕룡%손수평%부려신%단당인%리야%로요화%단목경탁

    变密度%卤化物%X射线光阴极%微通道板 變密度%滷化物%X射線光陰極%微通道闆
    변밀도%서화물%X사선광음겁%미통도판
    在MCP输入端通道内壁制作了反射式X射线敏感膜层,提高了MCP对能量35～50kev X射线的探测能力.实验结果表明:变密度结构的CsI/MCP中膜层结构较密实时,其输出响应可提高5～6倍,较无膜MCP提高1～2个数量级,和CsBr、KBr相比较,以CsI的响应特性为最佳;膜层材料、结构、工艺和X射线能量等是影响探测能力的主要因素.最后指出了这种反射式CsI/MCP薄膜的应用前景.
    재MCP수입단통도내벽제작료반사식X사선민감막층,제고료MCP대능량35～50kev X사선적탐측능력.실험결과표명:변밀도결구적CsI/MCP중막층결구교밀실시,기수출향응가제고5～6배,교무막MCP제고1～2개수량급,화CsBr、KBr상비교,이CsI적향응특성위최가;막층재료、결구、공예화X사선능량등시영향탐측능력적주요인소.최후지출료저충반사식CsI/MCP박막적응용전경.
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