真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2008年
1期
16-20
,共5页
翁伟浩%宋晨路%翁文剑%刘军波%应益明%韩高荣
翁偉浩%宋晨路%翁文劍%劉軍波%應益明%韓高榮
옹위호%송신로%옹문검%류군파%응익명%한고영
TiO2%常压化学气相沉积%自清洁%镀膜玻璃
TiO2%常壓化學氣相沉積%自清潔%鍍膜玻璃
TiO2%상압화학기상침적%자청길%도막파리
以四异丙醇钛(TTIP)为先驱体,采用常压化学气相沉积(APCVD)法模拟镀膜工艺过程,制备出了TiO2自清洁镀膜玻璃.通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、紫外-可见透射光谱(UV-Vis)等手段对样品进行分析,并研究了基板温度和移动速率与薄膜性能之间的关系.结果表明,当基板温度升高至580 ℃时,能够形成平整致密的薄膜,薄膜的结晶度,光催化性能和亲水性能也达到最好;基板移动速度下降到1.5 m/min时,薄膜的结晶度,光催化性和亲水性也可得到改善.依据光催化性能和亲水性能测试,表明沉积TiO2薄膜的最佳条件为基板温度580℃,基板速度1.5 m/min.
以四異丙醇鈦(TTIP)為先驅體,採用常壓化學氣相沉積(APCVD)法模擬鍍膜工藝過程,製備齣瞭TiO2自清潔鍍膜玻璃.通過掃描電鏡(SEM)、X射線衍射(XRD)、紫外-可見透射光譜(UV-Vis)等手段對樣品進行分析,併研究瞭基闆溫度和移動速率與薄膜性能之間的關繫.結果錶明,噹基闆溫度升高至580 ℃時,能夠形成平整緻密的薄膜,薄膜的結晶度,光催化性能和親水性能也達到最好;基闆移動速度下降到1.5 m/min時,薄膜的結晶度,光催化性和親水性也可得到改善.依據光催化性能和親水性能測試,錶明沉積TiO2薄膜的最佳條件為基闆溫度580℃,基闆速度1.5 m/min.
이사이병순태(TTIP)위선구체,채용상압화학기상침적(APCVD)법모의도막공예과정,제비출료TiO2자청길도막파리.통과소묘전경(SEM)、X사선연사(XRD)、자외-가견투사광보(UV-Vis)등수단대양품진행분석,병연구료기판온도화이동속솔여박막성능지간적관계.결과표명,당기판온도승고지580 ℃시,능구형성평정치밀적박막,박막적결정도,광최화성능화친수성능야체도최호;기판이동속도하강도1.5 m/min시,박막적결정도,광최화성화친수성야가득도개선.의거광최화성능화친수성능측시,표명침적TiO2박막적최가조건위기판온도580℃,기판속도1.5 m/min.
