陶瓷学报
陶瓷學報
도자학보
JOURNAL OF CERAMICS
2009年
2期
146-150
,共5页
RB SiC%PVD SiC涂层%表面粗糙度%散射损耗%反射率
RB SiC%PVD SiC塗層%錶麵粗糙度%散射損耗%反射率
RB SiC%PVD SiC도층%표면조조도%산사손모%반사솔
为了改善RB SiC陶瓷反射率较低的情况,利用RF磁控溅射法在RB SiC基底表面涂覆一层结构致密的PVD SiC涂层.采用XRD表征了PVD SiC涂层的晶化程度.利用AFM和表面轮廓仪观察了RB SiC基底和PVD SiC涂层抛光后的表面形貌和表面粗糙度,并在可见光和红外波段测量了反射率.结果表明,当采用PVD SiC涂层对RB SiC基底表面改性后,抛光后其表面缺陷明显减少,表面粗糙度Ra为0.809nm,反射率提高约为2%,最高可达99.2%,改性效果明显.PVD SiC涂层有望在可见光和红外波段获得实际应用.
為瞭改善RB SiC陶瓷反射率較低的情況,利用RF磁控濺射法在RB SiC基底錶麵塗覆一層結構緻密的PVD SiC塗層.採用XRD錶徵瞭PVD SiC塗層的晶化程度.利用AFM和錶麵輪廓儀觀察瞭RB SiC基底和PVD SiC塗層拋光後的錶麵形貌和錶麵粗糙度,併在可見光和紅外波段測量瞭反射率.結果錶明,噹採用PVD SiC塗層對RB SiC基底錶麵改性後,拋光後其錶麵缺陷明顯減少,錶麵粗糙度Ra為0.809nm,反射率提高約為2%,最高可達99.2%,改性效果明顯.PVD SiC塗層有望在可見光和紅外波段穫得實際應用.
위료개선RB SiC도자반사솔교저적정황,이용RF자공천사법재RB SiC기저표면도복일층결구치밀적PVD SiC도층.채용XRD표정료PVD SiC도층적정화정도.이용AFM화표면륜곽의관찰료RB SiC기저화PVD SiC도층포광후적표면형모화표면조조도,병재가견광화홍외파단측량료반사솔.결과표명,당채용PVD SiC도층대RB SiC기저표면개성후,포광후기표면결함명현감소,표면조조도Ra위0.809nm,반사솔제고약위2%,최고가체99.2%,개성효과명현.PVD SiC도층유망재가견광화홍외파단획득실제응용.
