电镀与精饰
電鍍與精飾
전도여정식
PLATING & FINISHING
2012年
7期
1-4
,共4页
袁菊%朱承飞%瞿澄%姚力军
袁菊%硃承飛%瞿澄%姚力軍
원국%주승비%구징%요력군
电解精炼%提纯铜%铜镀层%织构
電解精煉%提純銅%銅鍍層%織構
전해정련%제순동%동도층%직구
在硫酸铜电解液中加入硫酸钠,利用电沉积和X-射线衍射方法研究了不同提纯铜工艺制备的铜镀层及织构特征.结果表明,织构度受到电流密度、镀层厚度和温度的影响,在较小的电流密度、较高温度及在较薄厚度的铜镀层得到(111)晶面择优取向,在较高的电流密度及在镀层δ达到30μm时得到(220)晶面择优取向,而且铜镀层(220)晶面比(111)晶面更易保留,(220)晶面使纯铜能获得更好的电化学性能,保持纯铜晶面的择优取向对铜在半导体的应用产生了深远的影响.
在硫痠銅電解液中加入硫痠鈉,利用電沉積和X-射線衍射方法研究瞭不同提純銅工藝製備的銅鍍層及織構特徵.結果錶明,織構度受到電流密度、鍍層厚度和溫度的影響,在較小的電流密度、較高溫度及在較薄厚度的銅鍍層得到(111)晶麵擇優取嚮,在較高的電流密度及在鍍層δ達到30μm時得到(220)晶麵擇優取嚮,而且銅鍍層(220)晶麵比(111)晶麵更易保留,(220)晶麵使純銅能穫得更好的電化學性能,保持純銅晶麵的擇優取嚮對銅在半導體的應用產生瞭深遠的影響.
재류산동전해액중가입류산납,이용전침적화X-사선연사방법연구료불동제순동공예제비적동도층급직구특정.결과표명,직구도수도전류밀도、도층후도화온도적영향,재교소적전류밀도、교고온도급재교박후도적동도층득도(111)정면택우취향,재교고적전류밀도급재도층δ체도30μm시득도(220)정면택우취향,이차동도층(220)정면비(111)정면경역보류,(220)정면사순동능획득경호적전화학성능,보지순동정면적택우취향대동재반도체적응용산생료심원적영향.
